发明名称 |
掩模、附有光反射膜的基板、光反射膜的形成方法 |
摘要 |
本发明的课题是,提供用于制造干涉条纹产生得少的附有光反射膜的基板的掩模、使用它的附有光反射膜的基板、光反射膜的制造方法、具有干涉条纹产生得少的附有光反射膜的基板的电光器件,以及具有干涉条纹产生得少的附有光反射膜的基板的电子装置。以如下方式制作附有光反射膜的基板:以比点区数少的点数为一个单元形成透光部或不透光部,并且将其在该单元内不规则地排列,同时使用含有多个该单元的掩模,使在基体材料上形成的多个凸部的高度或凹部的深度实质上相等,以及将该多个凸部或凹部的平面形状制成独立的圆和多边形,或者某一方的平面形状,并且在平面方向随机排列多个凸部或凹部。 |
申请公布号 |
CN1392443A |
申请公布日期 |
2003.01.22 |
申请号 |
CN02123147.8 |
申请日期 |
2002.06.19 |
申请人 |
精工爱普生株式会社 |
发明人 |
大竹俊裕;松尾睦;露木正 |
分类号 |
G02F1/1335;G03F1/00;G02B5/10;G02B1/04 |
主分类号 |
G02F1/1335 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
刘宗杰;叶恺东 |
主权项 |
1.一种掩模,用于在有多个点区的基板上形成图形,其特征在于,包括:可透过入射光的透光部;以及实质上不透光的不透光部,由上述透光部或不透光部形成的图形以比上述点区的数目少的点数为一个单元而形成,同时在该一个单元内不规则地排列,并且含有多个上述单元。 |
地址 |
日本东京都 |