发明名称 |
相位误差检测图案及其应用 |
摘要 |
一种相位误差检测图案及其应用,此相位误差检测图案包含位于一交替型相移式光罩边缘的一交替相移图案,以及位于一修饰光罩边缘的一修饰图案,而此交替型相移式光罩与此修饰光罩搭配使用。其中,交替相移图案具有数对第一不透光区,其中每一对不透光区都位于一相移区的两侧;修饰图案具有多个第二不透光区,其中每一个的位置是对应一对第一不透光区中位于第一侧的不透光区。另外,此相位误差检测图案的应用方法如下:首先按顺序以上述交替型相移式光罩及修饰光罩对一正光阻层曝光,再测量所得的检测光阻图案的偏移量,并以检测光阻图案的偏移量与曝光光源的散焦值反推得交替型相移式光罩的相位误差。 |
申请公布号 |
CN1392452A |
申请公布日期 |
2003.01.22 |
申请号 |
CN02122693.8 |
申请日期 |
2002.06.20 |
申请人 |
联华电子股份有限公司 |
发明人 |
赖建文;蔡澄贤 |
分类号 |
G03F7/00;G03F1/08;G03F9/00;G06T7/00 |
主分类号 |
G03F7/00 |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
黄小临;王志森 |
主权项 |
1.一种相位误差检测图案,用于检测一交替型相移式光罩的一相位误差,该相位误差检测图案包含一交替相移图案与一修饰图案,并且该交替相移图案位于该交替型相移式光罩的边缘,且该修饰图案位于一修饰光罩的边缘,该交替型相移式光罩与该修饰光罩是先后使用于同一曝光制造过程中,且该交替相移图案之位置与该修饰图案之位置相对应;该交替相移图案包括多个第一不透光区,以及位于这些第一不透光区之间且交替排列之多个相移区与多个透光区,其中每一相移区两侧的两个第一不透光区分为一对;以及该修饰图案包括多个第二不透光区,其中每一个第二不透光区的位置都对应于一对第一不透光区中位于一第一侧的一个不透光区,且任一个第二不透光区的宽度大于任一个第一不透光区的宽度。 |
地址 |
台湾省新竹科学工业园区 |