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发明名称 Method of reducing surface defects of a patterned resist layer
摘要
申请公布号 EP1122611(A3) 申请公布日期 2003.01.22
申请号 EP20010300869 申请日期 2001.01.31
申请人 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 发明人 NITTA, KAZUYUKI;NAKAO, TAKU;MAEMORI, SATOSHI;MATSUMI, TATSUYA
分类号 H01L21/027;G03F7/38;G03F7/40;(IPC1-7):G03F7/38;G03F7/004 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
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