| 主权项 |
1.一种光学记录媒体,包含至少一层记录层以及一层金属反射层于一片具有一切槽的透明基板上,其中,该记录层包含一种式(1)表示之含1至4个内消旋氮原子之氮杂咯紫质金属错合物染料作为主要组成分;记录及/或再生可使用一种具有波长1的雷射束以及也可使用一种波长短于1的2之雷射束进行;记录层具有折射率n于1为2.0或以上以及于2为1.8或以上,以及具有衰减系数k于1为0.04至0.20,以及于2为0.30或以下;以及于透明基板的切槽具有节距0.70至0.85微米,半値宽度0.20至0.35微米以及倾角45至65度:其中X1至X3分别表示氮或CH;R1至R8分别选自氢、卤素、含1至12个碳原子之经取代或未经取代烷基、含6至20个碳原子之经取代或未经取代芳基、羟基、经取代或未经取代烷氧基、经取代或未经取代芳氧基、胺基或烷基胺基、硝基、氰基、羧基、经取代或未经取代羧酸根、经取代或未经取代羧醯胺、烷硫基、芳硫基、磺醯基、经取代或未经取代磺酸根、经取代或未经取代磺醯胺、经取代或未经取代矽烷基及矽烷氧基;以及中心金属M表示过渡金属其可带电而具有阳离子性盐结构。2.如申请专利范围第1项之光学记录媒体,其中,记录与再生可使用波长1之雷射束进行,而再生可使用波长2之雷射束进行。3.如申请专利范围第1项之光学记录媒体,其中,该雷射波长1系选自630至680毫微米之范围,而雷射波长2系选自390至430毫微米之范围。4.如申请专利范围第2项之光学记录媒体,其中,该雷射波长1系选自630至680毫微米之范围,而雷射波长2系选自390至430毫微米之范围。5.如申请专利范围第1项之光学记录媒体,其中,经由基板测定,具有波长1之雷射之反射比为40%或以上,而具有波长2之雷射之反射比为15%或以上。6.如申请专利范围第2项之光学记录媒体,其中,经由基板测定,具有波长1之雷射之反射比为40%或以上,而具有波长2之雷射之反射比为15%或以上。7.如申请专利范围第3项之光学记录媒体,其中,经由基板测定,具有波长1之雷射之反射比为40%或以上,而具有波长2之雷射之反射比为15%或以上。8.如申请专利范围第4项之光学记录媒体,其中,经由基板测定,具有波长1之雷射之反射比为40%或以上,而具有波长2之雷射之反射比为15%或以上。 |
