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发明名称
PROCESS FOR ETCHING AN INSULATING LAYER AND FORMING A SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号
SG93886(A1)
申请公布日期
2003.01.21
申请号
SG20000005137
申请日期
2000.09.12
申请人
MOTOROLA, INC.
发明人
RAJAGOPALAN, GANESH
分类号
H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/311;H01L21/768;H01L23/522;(IPC1-7):H01L21/311
主分类号
H01L21/302
代理机构
代理人
主权项
地址
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