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In einem Mehrfachbelichtungs-Zeichenverfahren zum Zeichnen eines Musters auf eine Zeichenfläche unter Verwendung einer Belichtungseinheit (18¶1¶ bis 18¶8¶, 20¶1¶ bis 20¶7¶), die mehrere matrixartig angeordnete optische Modulationselemente enthält, wird die Belichtungseinheit (18¶1¶ bis 18¶8¶, 20¶1¶ bis 20¶7¶) kontinuierlich mit konstanter Geschwindigkeit relativ zu der Zeichenfläche (32) in einer Matrixrichtung bewegt, die durch die Matrixanordnung der Modulationselemente definiert ist. Die optischen Modulationselemente, die in regelmäßigem Abstand voneinander, fluchtend in der genannten Richtung angeordnet sind, werden sukzessive und selektiv auf Grundlage eines gleichen Bitdatums angesteuert, um so einen auf sie fallenden Lichtstrahl zu modulieren, wann immer die Belichtungseinheit (18¶1¶ bis 18¶8¶, 20¶1¶ bis 20¶7¶) um eine dem regelmäßigen Abstand entsprechende Strecke bewegt wird, was zur Erzeugung eines Pixelpunktes durch die modulierten Lichtstrahlen auf der Zeichenfläche nach Art einer Mehrfachbelichtung führt. Die Belichtungszeit zum Erzeugen des Pixelpunktes durch jeden der modulierten Lichtstrahlen ist kürzer als die Zeit, die erforderlich ist, die Belichtungseinheit (18¶1¶ bis 18¶8¶, 20¶1¶ bis 20¶7¶) um eine der Größe eines Pixelpunktes entsprechende Strecke zu bewegen.
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