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"PROCESSO DE FABRICAçãO DE PREFORMAS DE SìLICA DE ALTA EFICIêNCIA PARA FIBRAS óPTICAS". No processo VAD para fabricação de preformas para fibras ópticas, normalmente utiliza-se de maçarico(s) especial(is) para a deposição da sílica e dopagem com germânio. O processo de dopagem por deposição axial e/ou excêntrico ao eixo da preforma no estado vapor, VAD, descrito nesta patente, separa a alimentação de insumos de silício e germânio (SiCI4 e GeCI4) de formas independentes, depositando-se a sílica através do maçarico VAD convencional, e direcionando-se o fluxo de germânio através do uso de injetor capilar. Por esse processo pode-se controlar a velocidade, a vazão e a direção de incidência do fluxo de vapor de germânio, soprado pelo tubo capilar, relativo ao fluxo de vapor de silício, soprados pelo maçarico VAD, e relativos a preforma em deposição causando uma mistura localizada dos haletos metálicos e ao mesmo tempo alterando a temperatura e caráter (redutor/oxidante) localizado da atmosfera. Dessa forma, promove-se a deposição de germânio de forma diferenciada e com elevada eficiência, "moldando-se" um ou mais perfis de concentração de germânio ao longo do raio da preforma, isto é, um perfil gaussiano ou em forma de anéis-concêntricos, ou um complemento dos dois perfis ("multiple concentric core").
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