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发明名称 Verfahren zur Herstellung einer Barrierenschicht auf einem Siliziumsubstrat
摘要
申请公布号 DE10029658(C2) 申请公布日期 2003.01.09
申请号 DE20001029658 申请日期 2000.06.16
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 SCHREMS, MARTIN;WURZER, HELMUT;KRASEMANN, ANKE;POMPL, THOMAS
分类号 H01L21/316;H01L27/08;(IPC1-7):H01L21/314;H01L21/336;H01L21/822 主分类号 H01L21/316
代理机构 代理人
主权项
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