一种电光晶体材料半波电压和光学均匀性的测量装置和测量方法

摘要

一种电光晶体材料半波电压和光学均匀性的测量装置和测量方法,具体涉及电光晶体的静态消光比、动态消光比和半波电压的测量。测量装置包括氦氖激光器、起偏器、分光板、全反镜、检偏器、光电二极管、检流计以及直流高压电源,分光板与入射光夹角45°或135°。测量方法是将上下表面涂银电极的被测晶体放置在分光板之后,打开激光器,晶体上未加电压时调整检偏器和起偏器正交或平行,探测到的光强信号分别为I₁和I₂,I₂/I₁为静态消光比。加大电压,检流计指示的光强信号至最大时,晶体上所加电压为半波电压,这时的光强信号为I₃,I₃/I₁为动态消光比。本发明可用来测量有旋光性电光晶体材料的静态消光比、动态消光比和半波电压。

主权项

1.一种电光晶体材料半波电压和光学均匀性的测量装置，包括氦氖激光器、起偏器、全反镜、检偏器、光电二极管、检流计以及直流高压电源，其特征是，按光路方向在起偏器之后设一分光板与入射光夹角45°或135°，分光板之后是被测晶体置放位，其后为全反镜，在分光板正下方依此是检偏器、光电二极管和检流计，光电二极管与检流计电连接，其它各部件之间为光关联。