发明名称 Interferometric measuring apparatus for wavelength calibration
摘要 <p>Die vorliegende Erfindung betrifft eine interferometrische Messvorrichtung zur Wellenlängenkalibrierung mit einer Laserlichtquelle (1), einem Detektor (2) und einem Interferometer (3), wobei die Laserlichtquelle (1) Licht mindestens einer Wellenlänge emittiert, wobei das Interferometer (3) das Licht der Laserlichtquelle (1) in zwei Teilstrahlen (4, 5)- einen Referenzstrahl (4) und einen Messstrahl (5) - trennt und die Teilstrahlen (4, 5) nach mindestens einer Reflexion an jeweils einem Reflexionsmittel (6) wieder vereinigt, wobei die Weglängendifferenz zwischen dem Referenzstrahl (4) und dem Messstrahl (5) eine konstante Wellenlängen-Kalibrierstrecke definiert. Zur Erhöhung der Messgenauigkeit bzw. zur Verringerung der Messfehler kann die Strecke des Messstrahls verlängert werden, ohne jedoch Probleme bei der Fertigung, Montage und/oder Justage zu verursachen. Die erfindungsgemäße interferometrische Messvorrichtung ist dadurch gekennzeichnet, dass im Strahlengang des Messstrahls (5) mindestens ein zusätzliches Reflexionsmittel (8) vorgesehen ist, das den Messstrahl zumindest weitgehend in die entgegengesetzte Richtung reflektiert. &lt;IMAGE&gt;</p>
申请公布号 EP1273895(A2) 申请公布日期 2003.01.08
申请号 EP20020100756 申请日期 2002.06.27
申请人 LEICA MICROSYSTEMS SEMICONDUCTOR GMBH 发明人 KACZYNSKI, ULRICH;RINN, KLAUS,DR.
分类号 G01B9/04;G01B11/00;G01J9/02;(IPC1-7):G01J9/02 主分类号 G01B9/04
代理机构 代理人
主权项
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