利用原子层淀积形成薄膜的方法

摘要

本发明提供一种利用原子层淀积(ALd)形成薄膜的方法。提供一种具有单反应空间的ALD反应器。可以在所述ALD反应器的单反应空间中同时装载一批衬底。然后,在单反应空间中引入含反应剂的气体,在单反应空间内,反应剂的一部分化学吸附到该批衬底的上表面上。然后,从单反应空间中排除未被化学吸附的反应剂。根据本发明的一个实施例,引入含反应剂气体后,在单反应空间内稀释未被化学吸附的反应剂,以便于排除未被化学吸附的反应剂。

主权项

1.一种利用原子层淀积形成薄膜的方法：提供具有单反应空间的反应器；将一批衬底同时装载在反应器的单反应空间内；向单反应空间中引入含反应剂的气体，在单反应空间，将反应剂的一部分化学吸附到衬底的上表面上；及从单反应空间中排除未被化学吸附的反应剂。