发明名称 Grabenkondensator einer DRAM-Speicherzelle mit metallischem Collarbereich und nicht-metallischer Leitungsbrücke zum Auswahltransistor
摘要 Eine Speicherzelle weist einen Auswahltransistor und einen Grabenkondensator auf, wobei die obere Kondensatorelektrode des Grabenkondensators im Bereich eines Isolationskragens (9) einen metallischen Abschnitt aufweist und der das Speicherdielektrikum (12) kontaktierende Abschnitt der oberen Elektrode nicht-metallisch, insbesondere Poly-Silizium, geformt ist und die die obere Elektrode mit dem Auswahltransistor verbindende Leitungsbrücke (16) nicht-metallisch, insbesondere aus Poly-Silizium, geformt ist.
申请公布号 DE10128718(A1) 申请公布日期 2003.01.02
申请号 DE20011028718 申请日期 2001.06.13
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 SELL, BERNHARD;SAENGER, ANNETTE;GUTSCHE, MARTIN;SEIDL, HARALD;ALSMEIER, JOHANN
分类号 H01L21/8242;(IPC1-7):H01L27/108;H01L21/824 主分类号 H01L21/8242
代理机构 代理人
主权项
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