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发明名称 Film forming method for a semiconductor device
摘要
申请公布号 EP1143499(A3) 申请公布日期 2003.01.02
申请号 EP20010107804 申请日期 2001.04.05
申请人 CANON SALES CO., INC.;SEMICONDUCTOR PROCESS LABORATORY CO., LTD. 发明人 IKAKURA, HIROSHI;SUZUKI, TOMOMI;MAEDA, KAZUO;SHIOYA, YOSHIMI;OHIRA, KOUICHI
分类号 C23C16/40;C23C16/505;H01L21/31;H01L21/312;H01L21/316;(IPC1-7):H01L21/312 主分类号 C23C16/40
代理机构 代理人
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