| 主权项 |
1.一种接触孔洞曝光的方法,包括下列步骤:提供一曝光机台,具有一光源及一镜头,其中上述镜头具有一中央透光孔隙及至少一辅助透光孔隙;提供一具复数接触孔洞图案的光罩;以及藉由上述镜头,使上述光源透过上述光罩,以进行曝光。2.如申请专利范围第1项所述之一种接触孔洞曝光的方法,其中上述光源系为深紫外光。3.如申请专利范围第1项所述之一种接触孔洞曝光的方法,其中上述镜头系为矩形。4.如申请专利范围第1项所述之一种接触孔洞曝光的方法,其中上述中央透光孔隙呈圆形。5.如申请专利范围第1项所述之一种接触孔洞曝光的方法,其中上述辅助透光孔隙呈矩形。6.如申请专利范围第5项所述之一种接触孔洞曝光的方法,其中上述辅助透光孔隙系为四个,大体上分别位于上述曝光镜头的四个角落。7.如申请专利范围第1项所述之一种接触孔洞曝光的方法,其中上述复数接触孔洞呈矩形。8.如申请专利范围第1项所述之一种接触孔洞曝光的方法,其中上述复数接触孔洞以阵列排列。9.一种光源产生装置,包括:一光源;以及一镜头,具有一中央透光孔隙及至少一辅助透光孔隙,用以使上述光源透过,以进行曝光。10.如申请专利范围第9项所述之光源产生装置,其中上述光源系为深紫外光。11.如申请专利范围第9项所述之光源产生装置,其中上述镜头系为矩形。12.如申请专利范围第9项所述之光源产生装置,其中上述中央透光孔隙呈圆形。13.如申请专利范围第9项所述之光源产生装置,其中上述辅助透光孔隙呈矩形。14.如申请专利范围第13项所述之光源产生装置,其中上述辅助透光孔隙系为四个,大体上分别位于上述曝光镜头的四个角落。图式简单说明:第1图,系显示一具复数接触孔洞图案之光罩的俯视图。第2图,系显示传统上光阻藉由第1图之光罩经曝光显影后所得之图案。第3图,系为根据本发明之曝光装置剖面图。第4图,系显示根据本发明的曝光镜头之俯视图。第5图,系显示根据本发明,光阻藉由第1图之光罩经曝光显影后所得之图案。 |
