| 主权项 |
1.一种反射镜面上之倾斜凸块结构的制造方法,至少包括以下步骤:提供一基材(substrate);形成一感光性材料层(photosensity material layer)于该基材上;定义该感光性材料层以形成复数个具有不同底面积之凸块(bump),其中,该些凸块之底部系相互连接;以及平滑(smoothing)该些凸块,以形成具有一倾斜角的凸块(bump)结构。2.如申请专利范围第1项所述之制造方法,其中系利用烘烤(baking)步骤使该些凸块溶融化(melting)而再流动(reflow),以平滑该些凸块。3.如申请专利范围第1项所述之制造方法,其中该些凸块更具有不同的高度。4.一种反射镜面上之倾斜凸块结构的制造方法,至少包括以下步骤:提供一基材;覆盖一感光性材料层于该基材上;定义该感光性材料层以形成m组图案(m为≧1之正整数),且每一组图案由具有不同底面积,且底部相连之复数个凸块所组成;以及平滑该些凸块,以形成具一倾斜角之凸块结构(bumpstructure with an inclined angle)。5.如申请专利范围第4项所述之制造方法,其中,定义该感光性材料层之步骤更包括曝光(expose)及显影(develop)。6.如申请专利范围第5项所述之制造方法,其中,提供一光罩(photomask)以对该感光性材料层进行曝光步骤。7.如申请专利范围第6项所述之制造方法,其中,该光罩上包括m组图案(m为≧1之正整数),每一组图案系由具不同宽度之复数个长条状遮光区所组成,且相邻之该两两长条状遮光区之间的一可透光间隙内更具有一狭长状遮光区。8.如申请专利范围第4项所述之制造方法,其中该些凸块更具有不同的高度。9.如申请专利范围第8项所述之制造方法,其中,底部相连之该些凸块系依底面积大至小排列,使平滑后的该些凸块形成m组具一倾斜角之凸块结构,且每一组凸块结构系由复数个自高到低、自大到小的凸块(bump)连接而成。10.如申请专利范围第4项所述之制造方法,其中,该m组图案系规则地配置于该感光性材料层上。11.如申请专利范围第4项所述之制造方法,其中,该m组图案系无规(random)地配置于该感光性材料层上。12.如申请专利范围第4项所述之制造方法,其中,每一组图案系均由n个具不同底面积且底部相连之凸块所组成(n为≧2之正整数)。13.如申请专利范围第12项所述之制造方法,其中,平滑后的该些凸块形成m组具一倾斜角之凸块结构,且每一组凸块结构由n个凸块(bump)连接而成。14.一种反射镜面上之倾斜凸块之制造方法,包括下列步骤:提供一基材(substrate);形成一感光性材料层于该基材上;定义该感光性材料层,以形成具不同底面积且底部相连之复数个凸块;平滑该些凸块,以形成一倾斜凸块(bump)结构;以及形成一金属反射层于该基材上,该金属反射层并覆盖该倾斜凸块结构。15.如申请专利范围第14项所述之制造方法,其中,定义该感光材料之步骤更包括曝光和显影。16.如申请专利范围第14项所述之制造方法,其中系利用烘烤(baking)步骤使该些凸块溶融化(melting),以平滑该些凸块(melting the pillars bybaking for smoothing the pillars)。17.如申请专利范围第14项所述之制造方法,其中,该反射镜面系使用于一反射式液晶显示面板(reflective Liquid Crystal Display)。18.一种反射镜面上之倾斜凸块结构的制造方法,至少包括以下步骤:形成一感光性材料层(photosensitivity material layer)于一基材(substrate)上;曝光(exposing)该感光性材料层,使该感光性材料层之一第一部份系同时曝光不足(under-exposed);显影(developing)该感光性材料层,以使该感光性材料层之该第一部份形成一凹部(concave portion);以及平滑(smoothing)该感光性材料层,以形成一具有一预设倾斜角之连续的凹凸结构(contiguous deformitystructure)。19.如申请专利范围第18项所述之制造方法,其中,提供一光罩(photomask)以对该感光性材料层进行曝光。20.如申请专利范围第18项所述之制造方法,其中,该光罩包括对应该感光性材料层之该第一部份的一第一区域(first region),以及对应该感光性材料层之一第二部分的第二区域(second region),且该光罩上之该第一区域包括一具多狭缝结构之透光区(transparent region with multi-slits structure),而该光罩上之该第二区域则包括一不透光区(opaqueregion)。21.一种反射镜面上之倾斜凸块结构的制造方法,至少包括以下步骤:形成一感光性材料层(photosensitivity material layer)于一基材(substrate)上,其中,该感光性材料层包括一第一区域及一第二区域;曝光(exposing)该感光性材料层,使该感光性材料层之一第一部份系同时曝光不足(under-exposed);显影(developing)该感光性材料层,使该感光性材料层之该第二部份经由该第一部份而相互接合;以及溶融(melting)该感光性材料层,以形成一具有一预设倾斜角之连续凹凸结构(contiguous deformity structure)。图式简单说明:第1图绘示传统一反射镜面其光线反射率与量测角度之关系图;第2图绘示另一传统的反射镜面其光线反射率与量测角度之关系图;第3图绘示又一传统的反射镜面其光线反射率与量测角度之关系图;第4图绘示依照本发明实施例一之光罩的部分上视图;第5A~5C图绘示依照本发明实施例一之反射镜面上之倾斜凸块结构的制造方法;第6图绘示依照本发明实施例一之反射镜面上之倾斜凸块结构之立体剖面图;第7图绘示依照本发明实施例二之光罩的部分上视图;第8图绘示以第7图之光罩形成之反射镜面上之倾斜凸块结构的立体剖面图。第9A图绘示依照本发明之另一光罩的部分上视图;第9B图绘示依照本发明之又一光罩的部分上视图;及第10图绘示依照本发明之再一光罩的部分上视图; |
