| 主权项 |
1.一种轴承装置,包含:一导电轴承套筒;一导电轴承轴透过一容隙设在一相对于该轴承套筒的位置;及润滑剂充填于该轴承套筒与轴承轴之间的容隙中,该润滑剂具有导电性。2.一种流体轴承装置,其中设有一轴承套筒上之轴承面,乃透过充填在一轴承容隙中之润滑剂,而相对于设在一轴承轴上的轴承面,且至少该轴承套筒的轴承面或该轴承轴的轴承面之一者具有凹沟可产生动压力;其中该轴承套筒与该轴承轴系经由该具有导电性的润滑剂来电连接。3.如申请专利范围第2项之流体轴承装置,其中该润滑剂含有一静电荷防止剂。4.如申请专利范围第3项之流体轴承装置,其中该静电荷防剂包含至少下列之一者:具有氢氧基的有机化合物;聚醚及其衍生物;酯及其衍生物;唑及其衍生物;季铵盐及其衍生物;甜菜硷;及碳材料。5.一种磁碟装置,包含:一导电轴承套筒;一导电轴承轴透过一容隙设在一相对于该轴承套筒的位置;润滑剂充填于该轴承套筒与轴承轴之间的容隙中,及一磁碟;其中该润滑剂具有导电性,且该磁碟系被固设成电接触于该轴承轴或轴承套筒之一者。6.一种磁碟装置,包含:一流体轴承装置,其中设在一轴承套筒上之轴承面,乃透过充填在一轴承容隙中之导电润滑剂,而相对于设在一轴承轴上的轴承面,且至少该轴承套筒的轴承面或该轴承轴的轴承面之一者具有凹沟可产生动压力;及一磁碟固设于该流体轴承装置之该轴承轴或轴承套筒之一者上;其中该磁碟系经由该润滑剂电连接于该轴承轴与轴承套筒。7.如申请专利范围第6项之磁碟装置,其中该润滑剂含有一静电荷防止剂。8.如申请专利范围第7项之磁碟装置,其中该静电防止剂包含至少下列之一者:具有氢氧基的有机化合物;聚醚及其衍生物,酯及其衍生物;唑及其衍生物;季铵盐及其衍生物;甜菜硷;及碳材料。图式简单说明:第1图系本发明第一实施例之旋转轴流体轴承装置一关键部份的侧剖示意图。第2图系本发明第一实施例之固定轴流体轴承装置一关键部份的侧剖示意图。第3图系使用本发明第二实施例之旋转轴流体轴承装置的磁碟装置之侧剖视图。第4图系使用本发明第二实施例之固定轴流体轴承装置的磁碟装置之侧剖视图。第5图为习知旋转轴流体轴承装置之一关键部份的侧剖示意图。第6图为习知固定轴流体轴承装置之一关键部份的侧剖示意图。 |
