发明名称 激光开孔用铜箔
摘要 一种铜箔,是使用激光进行开孔加工的铜箔,在该铜箔的至少激光入射面上,施行含有铜的至少不少于一种的金属镀敷,在该面形成0.01~3μm的粒子层。提供在制造印刷电路基板时,通过改善铜箔的表面而使激光加工容易、适于小径层间连接孔的铜箔。
申请公布号 CN1388841A 申请公布日期 2003.01.01
申请号 CN01802679.6 申请日期 2001.03.30
申请人 株式会社日矿材料 发明人 坂本胜;北野皓嗣
分类号 C25D7/06 主分类号 C25D7/06
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 魏金玺;杨丽琴
主权项 1.一种激光开孔用铜箔,是使用激光进行开孔加工的铜箔,其特征在于:在该铜箔的至少激光入射面上,施行含有铜的至少不少于一种的金属镀敷,在该面形成0.01~3μm的粒子层。
地址 日本东京都