形成光学图象的方法、用于本方法的掩模、用本方法制造器件的方法及实施本方法的设备

摘要

利用接近印刷法和设备所得到的分辨率通过利用衍射掩模(30)而不是光掩模而显著增加,其中,图象信息被编码在图象元(37)的二维阵列(32)中,所述图象元具有比要印刷的最小特征尺寸小的尺度,每个图象元具有至少两个幅度等级之一和至少三个相位等级之一。该掩模可以是多焦掩模,其在一个象场中有多个焦平面。

主权项

1.一种形成所需光学图象的方法，所述图象在对光学辐射敏感的材料层的选定表面上具有给定了的最小特征尺寸，该方法包含的步骤为：提供一光学辐射源，其具有至少一种预定波长λ；提供材料层，其对波长λ的光学辐射敏感，具有在其上接收光学图象的选定的表面；在辐射源与敏感材料层之间放置一掩模，它含有图象信息并且对源辐射至少是部分透明的，以使源辐射透过掩模射向敏感层，并且用透过该掩模的源辐射照明所选表面以产生所需的光学图象，特征在于使用一具有衍射单元形式的掩模，其中图象信息以图象元的二维阵列编码，图象元的尺度比最小特征尺寸要小，每一图象元有至少二个透过率等级之一至少三个相位等级之一。