| 发明名称 | 交流气体放电显示屏电极组件的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种交流气体放电显示屏的电极组件的制造方法,包括:往介质基板上涂敷电极,在电极上形成介质覆盖层,随后在介质层上在氧和氩的混合气体中用磁控溅射金属靶法涂敷MgO层。其特征在于氧化镁层的形成分两步完成:第一步,将带有电极和介质涂层的基板在真空中加热至温度(100－200)℃,保温不少于30分钟,并在氩和含(17－35)%氧的混合气体中涂敷第一层MgO,第二步,将基板在真空中加热到300℃至介质涂层变形温度的范围内,在氩和含(30－35)%氧的混合气体中涂敷第二层MgO。此时,每层MgO涂层厚度不少于100nm。用这种方法可得到高发射性能的大结晶结构的MgO层并保证在交流PDP中有短的发生放电的滞后时间。 | ||
| 申请公布号 | CN1387215A | 申请公布日期 | 2002.12.25 |
| 申请号 | CN02114638.1 | 申请日期 | 2002.06.24 |
| 申请人 | 彩虹集团公司 | 发明人 | 曹瑞林;胡文波;郭彩林;A.N.依弗留什金;N.N.列维娜;V.G.薩马洛托夫 |
| 分类号 | H01J9/02 | 主分类号 | H01J9/02 |
| 代理机构 | 西安通大专利代理有限责任公司 | 代理人 | 李郑建 |
| 主权项 | 1.一种交流气体放电显示屏的电极组件的制造方法，包括：往介质基板上涂敷电极，在电极上形成介质覆盖层，随后在介质层上在含氧的氩的混合气体中用磁控溅射金属靶法涂敷MgO层；其特征在于：氧化镁层的形成分两个步骤：第一步，将带有电极和介质涂层的基板在真空中加热至温度(100-200)℃，在此温度下保温不少于30分钟，这时在氩和含(17-35)％氧的混合气体中涂敷第一层MgO；第二步，将基板在真空中加热到300℃至介质涂层变形温度的范围内，在氩和含(30-35)％氧的混合气体中涂敷第二层MgO，此时，每层MgO涂层厚度不少于100nm。 | ||
| 地址 | 100085北京市海淀区上地信息路11号 | ||