发明名称 磁复制方法
摘要 一种利用磁复制用磁场生成装置对垂直磁记录介质进行效果良好的磁复制的磁复制方法,该复制用磁场生成装置使用由具有大于圆盘状垂直磁记录介质(2)的磁道面截面面积的圆柱状永磁铁(5a、5b)构成的永磁铁装置(5),在2个永磁铁(5a、5b)之间配置预先在垂直的一个方向对磁性层进行了初始直流磁化的磁记录介质(2)与圆盘状主载体(3、4)的接触体(10),并使复制用磁场(Hdu)方向与初始直流磁化方向相反,通过向磁道面全体区域同样地施加复制用磁场(Hdu),来同时进行磁道面全体区域的磁复制。
申请公布号 CN1387180A 申请公布日期 2002.12.25
申请号 CN02119792.X 申请日期 2002.05.16
申请人 富士胶片株式会社 发明人 小松和则;西川正一
分类号 G11B5/86;G11B5/84 主分类号 G11B5/86
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 汪惠民
主权项 1.一种磁复制方法,是一种使在具有用于向复制受体磁性层复制信息的图形状磁性层的磁复制用主载体的该磁性层与所述复制受体的磁性层紧密接触的状态下,通过施加复制用磁场,把所述信息磁复制到所述复制受体的磁性层上的磁复制方法,其特征在于:作为所述复制受体使用具有同心圆状磁道的圆盘状垂直磁记录介质,通过向与该复制受体磁道面垂直的一个方向施加初始直流磁场,对该复制受体的磁性层进行向与该磁道面垂直的一个方向的初始直流磁化,然后,通过把各个磁性层形成相互紧密接触的所述复制受体及所述主载体配置在生成在大于所述复制受体的磁道区域的区域上并与所述初始直流磁化方向相反方向的复制用磁场中,对磁道面的全体区域同时进行磁复制。
地址 日本国神奈川县