发明名称 薄膜形成单元
摘要 本发明系一种薄膜形成单元,系由吐出喷嘴供给涂敷液至基板上,并在该基板上形成薄膜,包含有:移动装置,系用以移动前述吐出喷嘴;而前述移动装置更包含有:支撑构件,系用以支撑前述吐出喷嘴;移动构件,系用以移动前述支撑构件;导引轴,系用以通过形成于前述支撑构件之轴承部;与,气体供给机构,系用以在前述轴承部与前述导引轴之间隙供给气体。吐出喷嘴系边沿着导引轴移动边吐出涂敷液。在基板上,沿着吐出喷嘴之移动轨迹进行涂敷液之涂敷。在轴承部与导引轴之间隙,由于由气体供给机构供给气体,所以对于导引轴可以使支撑构件形成中空浮上之状态。从而,由于轴承部与导引轴没有机械的接触,所以几乎不会发生滑动抵抗。其结果,即使以高速移动吐出喷嘴,亦可以藉滑动抵抗抑制震动,藉吐出喷嘴之微动涂敷液吐出不会散乱,可以正确的进行一定之涂敷液之涂敷。
申请公布号 TW514959 申请公布日期 2002.12.21
申请号 TW089126923 申请日期 2000.12.15
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 北野高广;森川佑晃;江崎幸彦;石信和;古闲法久;竹下和宏;大隈博文;饱本正巳
分类号 H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人 恽轶群 台北巿南京东路三段二四八号七楼;陈文郎 台北巿南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种薄膜形成单元,系由吐出喷嘴供给涂敷液至基板上,并在该基板上形成薄膜者,其包含有:移动装置,系用以使前述吐出喷嘴移动者;而前述移动装置更包含有:支撑构件,系用以支撑前述吐出喷嘴者;移动构件,系用以使前述支撑构件移动者;导引轴,系用以通过形成于前述支撑构件之轴承部者;及,气体供给机构,系用以供给气体于前述轴承部与前述导引轴之间隙者。2.如申请专利范围第1项之薄膜形成单元,其中前述吐出喷嘴系沿着导引轴作往复移动,而该吐出喷嘴之往复移动方向,系与基板移动方向呈直角的方向。3.如申请专利范围第2项之薄膜形成单元,其中前述导引轴系具有多数者。4.如申请专利范围第1项之薄膜形成单元,其中前述移动构件系被安装于前述支撑构件之略重心位置之无端的驱动带者。5.如申请专利范围第4项之薄膜形成单元,其中前述移动装置包含有:驱动滑轮与从动滑轮,系被挂上前述驱动带者;及,旋转驱动机构,系用以使前述驱动滑轮旋转驱动者。6.如申请专利范围第5项之薄膜形成单元,其中在前述驱动带中,于前述支撑构件之相反侧位置安装有平衡锤。7.如申请专利范围第5项之薄膜形成单元,其中在前述驱动带中,在与前述支撑构件之对向位置,安装有支撑其他之吐出喷嘴之其他之支撑构件。8.如申请专利范围第1项之薄膜形成单元,其中于前述轴承部之内壁覆盖有多孔质膜。9.如申请专利范围第1项之薄膜形成单元,包含有:一盖,系用以覆盖前述移动装置者;及,一排气口,形成于前述盖,系用以排出前述盖内之空气者。10.如申请专利范围第9项之薄膜形成单元,其中前述支撑构件系被配置于前述盖内者。11.如申请专利范围第9项之薄膜形成单元,其中前述移动装置包含有:驱动带,系安装有前述支撑构作者;及,驱动滑轮及从动滑轮,系卷回前述驱动带者;而前述驱动带、前述驱动滑轮及前述从动滑轮则被配置于前述盖内者。12.如申请专利范围第11项之薄膜形成单元,其中前述排气口系形成于至少在前述驱动滑轮近旁与前述从动滑轮近旁者。13.如申请专利范围第11项之薄膜形成单元,其中于前述驱动带之内侧设有隔间构件。14.如申请专利范围第9项之薄膜形成单元,其中于前述支撑构件与前述盖之内周面之间设有间构件。15.如申请专利范围第9项之薄膜形成单元,其中前述盖更被收纳于其他盖内。16.如申请专利范围第15项之薄膜形成单元,其中用以排出前述其他盖内之空气的其他排气口,系形成于前述其他盖。17.如申请专利范围第15项之薄膜形成单元,其中用以供给涂敷液至前述涂敷液吐出装置之流路,包含有:第1管路,系用以连接前述涂敷液吐出装与设置于前述其他盖之接续部者;及,第2管路,系用以连接涂敷液供给源与前述接续部者。18.如申请专利范围第1项之薄膜形成单元,其中前述支撑构件具有保持吐出喷嘴之吐出喷嘴保持构件,而前述吐出喷嘴可以相对前述吐出喷嘴保持构件自由装卸,前述吐出喷嘴保持构件具有吸着前述吐出喷嘴之一部份的吸引机构。19.如申请专利范围第1项之薄膜形成单元,其中前述支撑构件具有保持吐出喷嘴之吐出喷嘴保持构件,而前述吐出喷嘴系可以相对前述吐出喷嘴保持构件自由装卸;而前述吐出喷嘴构件具有吸着前述吐出喷嘴之一部份的螺线管。20.如申请专利范围第1项之薄膜形成单元,其中前述支撑构件具有保持吐出喷嘴之吐出喷嘴保持构件,而前述吐出喷嘴系可以相对前述吐出喷嘴保持构件自由装卸;而前述吐出喷嘴保持构件具有由外侧把持前述吐出喷嘴之把持构件,该把持构件系具有藉空气之流出入对前述吐出喷嘴可以自由膨胀收缩之推压构件者。21.如申请专利范围第1项之薄膜形成单元,其中前述支撑构件具有保持吐出喷嘴之吐出喷嘴保持构件,前述吐出喷嘴系可以相对前述吐出喷嘴保持构件自由装卸;而前述吐出喷嘴保持构件系对应前述吐出喷嘴之外形且其上下面设有开口之大略筒状,该吐出喷嘴保持构件更具有支撑前述吐出喷嘴之支撑部。22.如申请专利范围第18项之薄膜形成单元,其中前述吐出喷嘴保持构件具有对前述吐出喷嘴之移动方向于直角方向突出之凸部,前述吐出喷嘴具有嵌合于前述凸部之凹部者。23.如申请专利范围第18项之薄膜形成单元,其中前述吐出喷嘴具有对前述吐出喷嘴之移动方向于直角方向突出之凸部,前述吐出喷嘴保持构件具有嵌合于前述凸部之凹部者。24.如申请专利范围第22项之薄膜形成单元,其中前述凸部系突出于水平方向者。25.如申请专利范围第23项之薄膜形成单元,其中前述凸部系突出于水平方向者。26.如申请专利范围第18项之薄膜形成单元,其中至少在前述吐出喷嘴之可移动范围内,具有用以移动搬送前述吐出喷嘴之搬送装置,而前述搬送装置系可对前述吐出喷嘴构件交接前述吐出喷嘴者。27.如申请专利范围第26项之薄膜形成单元,其中具有可以多数支撑前述吐出喷嘴之喷嘴待机构件,该喷嘴待机构件系被设置于前述搬送装置之移动范围内,前述搬送装置系构成为可相对该待机构件交接前述吐出喷嘴者。28.如申请专利范围第18项之薄膜形成单元,其中具有可以多数支撑前述吐出喷嘴之喷嘴待机构件,该喷嘴待机构件系构成为可相对前述吐出喷嘴保持构件移动到可自由交接前述吐出喷嘴位置者。29.如申请专利范围第27项之薄膜形成单元,其中前述喷嘴待机构件具有收容前述吐出喷嘴之吐出口,且支撑该吐出喷嘴之收容部,该收容部内系维持有涂敷液之溶剂环境气体者。30.如申请专利范围第29项之薄膜形成单元,其中在前述喷嘴待机构件之下方具有涂敷液之溶剂流动之溶剂流路,并具有将该溶剂流路之环境气体导入前述收容部之环境气体导入路者。31.如申请专利范围第30项之薄膜形成单元,具有可以调节前述溶剂流路之溶剂温度之温度调节装置。32.如申请专利范围第29项之薄膜形成单元,具有可以自由关闭前述收容部之盖体。33.如申请专利范围第29项之薄膜形成单元,具有供给洗净液于被支撑于前述收容部之吐喷嘴之吐出口的洗净液供给部。34.一种薄膜形成单元,系由吐出喷嘴供给涂敷液至基板上并在该基板上形成膜者,其包含有:一基板保持部,系用以保持前述基板;一吐出喷嘴,系被设置于与被保持于前述基板保持部之基板相对向之位置,并向被保持于该基板保持部之基板吐出涂敷液者;一X方向驱动部,系用以使前述吐出喷嘴向X方向移动者;一吐出喷嘴用Y方向驱动部,系用以使前述吐出喷嘴间歇地向Y方向移动者;一基板保持部用Y方向驱动部,系用以使前述基板保持部间歇地向Y方向移动者;又,使前述吐出喷嘴向X方向移动,且在基板表面直线状地涂敷涂敷液之后,同时相互地使吐出喷嘴及基板保持部向Y方向之反向间歇地移动,使吐出喷嘴对向于已经涂敷之领域之邻近领域,如此再加以控制使涂敷于X方向之领域顺序地并排于Y方向。35.一种薄膜形成单元,系由吐出喷嘴供给涂敷液至基板上,并在该基板上形成膜者,其包含有:一基板保持部,系用以保持前述基板者;一吐出喷嘴,系被设置于与被保持于前述基板保持部之基板相对向之位置,并向被保持于该基板保持部之基板吐出涂敷液者;一第1吐出喷嘴及第2吐出喷嘴,系被设置于与被保持于各个基板保持部之基板相对向之位置,且相互地向Y方向分离,被设置成与该基板相对向;一X方向驱动部,系使该等第1吐出喷嘴及第2吐出喷嘴向各个X方向移动者;Y方向驱动部,系使第1吐出喷嘴及第2吐出喷嘴与基板保持部,相对地向Y方向间歇地移动者;又,藉使吐出喷嘴向X方向移动而在基板表面直线状地涂敷涂敷液之后,使第1吐出喷嘴及第2吐出喷嘴相对地向Y方向移动,使吐出喷嘴对向于已经涂敷之领域之邻近领域,如此再加以控制使涂敷于X方向之领域顺序地并排于Y方向。36.如申请专利范围第35项之薄膜形成单元,其中Y方向驱动部,系包含有:一吐出喷嘴用Y方向驱动部,系用以使第1吐出喷嘴及第2吐出喷嘴间歇地向Y方向移动;与,一基板保持用Y方向驱动部,系用以使基板保持部间歇地向Y方向移动者。37.如申请专利范围第35项之薄膜形成单元,其中第1吐出喷嘴及第2吐出喷嘴散置有共通之基体。38.如申请专利范围第35项之薄膜形成单元,其中第1吐出喷嘴及第2吐出喷嘴系相互逆向且对称移动者。39.如申请专利范围第35项之薄膜形成单元,其中基板保持部具有第1基板保持部及第2基板保持部,并构成为使第1吐出喷嘴系对被保持于第1基板保持部之基板吐出涂敷液,第2吐出喷嘴系对被保持于第2基板保持部之基板吐出涂敷液者。40.一种薄膜形成单元,系由吐出喷嘴供给涂敷液至基板上,并在该基板上形成膜者,包含有:一基板保持部,系用以保持前述基板者;一吐出喷嘴,系被设置于与被保持于前述基板保持部之基板相对向之位置,并向被保持于该基板保持部之基板吐出涂敷液者;一Y方向驱动部,系对于基板保持部使前述吐出喷嘴间歇地向Y方向相对地移动;及,一冲击缓和用移动体,系在使前述吐出喷嘴向X方向移动时,对于该吐出喷嘴反向且对称地移动;藉使前述吐出喷嘴向X方向移动而在基板表面直线状地涂敷涂敷液之后,使吐出喷嘴相对地向Y方向移动,让吐出喷嘴对向于已经涂敷之领域之邻近领域,如此加以控制使涂敷于X方向之领域顺序地并排于Y方向。41.如申请专利范围第35项之薄膜形成单元,其中X方向驱动部包含有:一导引轴构件,系用以导引吐出喷嘴并向X方向延伸者;一喷嘴保持体,系设置成使其经由空间包围该导引轴构件之周围;及,一气体供给装置,系用以供给加压气体于该喷嘴保持体与轴构件之间者。图式简单说明:第1图为关于本发明之实施型态,表示具有保护膜装置之涂敷显像处理系统之外观平面图。第2图为第1图之涂敷显像处理系统之平面图。第3图为第1图之涂敷显像处理系统之背面图。第4图为关于本实施型态之保护膜涂敷装置之纵截面之说明图。第5图为关于本实施型态之保护膜涂敷装置之横截面之说明图。第6图为移动装置及吐出喷嘴之透视图。第7图为藉驱动带之移动,表示吐出喷嘴及滑尺与平衡锤作往复移动之际之样子的平面图。第8图为移动装置之纵截面之说明图。第9图为由与第7图不同方向来看之滑尺之纵截面之说明图。第10图为轴承部及导引轴之纵断面之扩大图。第11图为表示配合保护膜液之涂敷经路与吐出喷嘴之速度变化之图表之说明图。第12图为为藉驱动带之移动,表示吐出喷嘴及滑尺与其他吐出喷嘴及滑尺作往复移动之际之样子的平面图。第13图为表示轴承部及导引轴之其他例之纵断面之扩大图。第14图为平衡锤侧之导引轴当1根的场合之移动装置之纵截面图。第15图为表示介由板弹簧架设2根之导引轴之状态之纵截面图。第16图为装备其他之吐出喷嘴替代平衡锤的场合之移动装置之纵截面图。第17图为在进行方向之前后具有吐出喷嘴的场合之由表示保护膜液之涂敷经路之平面来看之说明图。第18图为关于其他实施型态之保护膜涂敷装置之纵截面图之说明图。第19图为关于其他实施型态之保护膜涂敷装置之横截面图之说明图。第20图为表示分解盖、隔间板、移动装置之透视图。第21图为被配置于盖内之移动装置之纵截面之说明图。第22图为被配置于盖内之移动装置之平面之说明图。第23图为基台之平面图。第24图为在盖之内周面与驱动带之兼具有隔间板之移动装置之平面说明图。第25图为表示由正面来看设置马达于盖外之样子之说明图。第26图为表示由侧面来看设置马达于盖外之样子之说明图。第27图为表示滑尺之变形例之透视图。第28图为设置光学传感器于盖的场合之被配置于盖内之移动装置之平面说明图。第29图为具有其他盖之移动装置之纵截面之说明图。第30图为第29图所示之其他盖之透视图。第31图为关于其他实施型态之保护膜涂敷装置之纵截面之说明图。第32图为关于第31图所示之实施型态之保护膜涂敷装置之横截面之说明图。第33图为表示吐出喷嘴之移动机构之透视图。第34图为表示使用保护膜涂敷装置之吐出喷嘴之纵端面之说明图。第35图为表示吐出喷嘴之外观之透视图。第36图为表示吐出喷嘴之喷嘴挟持具之透视图。第37图为表示吐出喷嘴之移动机构与喷嘴搬送臂与喷嘴挟持具之透视图。第38图为表示喷嘴箱之纵端面之说明图。第39图为表示喷嘴箱之外观之透视图。第40图为表示喷嘴挟持具之其他型态之透视图。第41图为其他型态之喷嘴挟持具之说明图,(A)为平面图,(B)为纵截面图,(C)为底面图。第42图为表示交接吐出喷嘴至喷嘴挟持具之可能位置之可以移动之喷嘴箱之透视图。第43图为表示针对更进一步其他实施型态之涂敷膜形成单元之概略构造图。第44图为第43图所示之涂敷膜形成单元之平面图。第45图为表示使用覆盖晶圆周缘部之罩构件的场合之涂敷液之供给的样子之透视图。第46图为表示罩构件之其他例之透视图。第47图为表示在更进一步别的实施型态中之涂敷液供给样子之概略透视图。第48图为表示更进一步关于别的实施型态之涂敷膜形成单元之概略透视图。第49图为表示更进一步关于别的实施型态之涂敷膜形成单元之其他例之概略透视图。第50图为说明实施型态之作用之说明图。第51图为说明实施型态之作用之说明图。第52图为表示更进一步关于别的实施型态之X方向驱动部之概略透视图。第53图为关于第52图所示之实施型态表示喷嘴支撑体及平衡器之纵截面图。第54图系为了说明针对第53图所示之喷嘴支撑体之部分扩大图。第55图为表示关于第52图所示之实施型态之X方向驱动部之其他例之概略截面图。第56图为表示组入本实施型态之涂敷膜形成单元之涂敷显像装置之一例之透视图。第57图为由第56所示之涂敷显像装置之平面来看之说明图。
地址 日本