发明名称 非腐蚀性光阻剥离及清洗组合物
摘要 本发明系有关于一种非腐蚀性光阻剥离及清洗组合物,它包含:(a)约5%至约50%之溶剂,其系选自包括N-甲基-2-咯烷酮、N-羟乙基-2-咯烷酮、1,3-二甲基-2-咪唑烷酮、二甲亚、N,N-二甲基乙醯胺、二丙酮醇、乙二醇、丙二醇及其混合物;(b)约10%至约90%之烷醇胺,其系选自包括二(乙二醇)胺、单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、2-(2-胺乙基胺基)乙醇及其混合物;(c)约0.1%至约4%之式(I)化合物:其中R1-R4可分别选自包括氢、具有1-4个碳原子之烷基、具有1-4个碳原子之烷氧基、卤基、胺基、羟基、羧基或其组合;以及(d)约0.1%至40%之水,所有百分比均按整体剥离及清洗组合物之总重量计算。
申请公布号 TW514764 申请公布日期 2002.12.21
申请号 TW087106936 申请日期 1998.05.21
申请人 拱门专业化学公司 发明人 容后补呈;理察马克莫林;盖乐菱尼汉森
分类号 G03F7/00 主分类号 G03F7/00
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种非腐蚀性光阻剥离及清洗组合物,该组合物不含羟胺化合物,其包含:(a)5%至50%的溶剂,其系选自N-甲基-2-咯烷酮、N-羟乙基-2-咯烷酮、1,3-二甲基-2-咪唑烷酮、二甲亚、N,N-一二甲基乙醯胺、二丙酮醇、乙二醇、丙二醇及其混合物所组成之群;(b)10%至90%的烷醇胺,其系选自二(乙二醇)胺、单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、2-(2-胺乙基胺基)乙醇及其混合物所组成之群;(c)0.1%至4%之式(I)腐蚀抑制剂其中R1-R4可分别选自氢、具有1-4个碳原子的烷基、具有1-4个碳原子的烷氧基、卤素、胺基、羟基、羧基或其组合;及(d)0.1%至40%的水;所有百分比均按剥离及清洗组合物之总重计。2.根据申请专利范围第1项之非腐蚀性光阻剥离及清洗组合物,其中该腐蚀抑制剂系为水杨醇。3.根据申请专利范围第1项之非腐蚀性光阻剥离及清洗组合物,其中该溶剂包含8-40%,该烷醇包含20-80%,该腐蚀抑制剂包含0.2-3.8%,而该水包含5-35%,所有重量百分比皆基于剥离及清洗组合物之总重量计算。4.根据申请专利范围第1项之非腐蚀性光阻剥离及清洗组合物,其中该溶剂包含10-35%,该烷醇胺包含30-70%,该腐蚀抑制剂包含0.5-3.5%,该水包含10-30%,所有重量百分比皆基于剥离及清洗组合物之总重量计算。5.根据申请专利范围第1项之非腐蚀性光阻剥离及清洗组合物,其另外包含0.01至2重量百分比之表面活性化合物,该百分比是基于组合物之总重量计算。6.根据申请专利范围第1项之非腐蚀性光阻剥离及清洗组合物,其中该腐蚀抑制剂系为2,4-二甲基-6-羟甲基苯酚。7.一种不含羟胺化合物之非腐蚀性光阻剥离和清洗组合物,它包含:(a)8-40%之N-甲基-2-咯烷酮;(b)20-80%之单乙醇胺;(c)0.2-3.8%之水杨醇;及(d)5-35%之水;所有重量百分比皆基于剥离和清洗组合物之总重量计算。
地址 美国