| 主权项 |
1.一种基板表面喷涂装置之基板定位结构,用以将 一待喷涂基板定位在一喷涂装置之喷涂平台上,以 利喷涂装置对该基板之表面进行喷涂作业,该基板 定位结构包括有: 一定位板,结合在该喷涂平台上,该定位板之其中 一侧形成一定位区域,以供该待喷涂基板抵靠定位 ; 一盖板,藉由一枢连结构连结在该定位板之其中一 侧缘,使该盖板得以该枢连结构掀起或盖覆在该定 位板上; 该盖板之中央区域形成有一中央镂空区,其尺寸恰 配置待喷涂基板之尺寸,当该盖板盖覆在该定位板 上时,该中央镂空区恰使待喷涂基板之表面暴露出 ,以供该喷涂装置以选定之喷涂材料对该基板之表 面进行喷涂作业。2.如申请专利范围第1项所述之 基板表面喷涂装置之基板定位结构,其中该定位板 之定位区域系呈一L形定位区域,其具有一第一定 位缘、以及一第二定位缘,恰可供待喷涂基板之两 相邻侧缘抵靠定位。3.如申请专利范围第1项所述 之基板表面喷涂装置之基板定位结构,其在该喷涂 平台之内部底面更包括有一更包括有一底部加热 装置,以使该喷涂装置在进行基板之表面材料喷涂 作业时,得同时以该底部加热装置对该待喷涂之基 板由底面予以加热。图式简单说明: 图一系显示本创作基板表面涂布材料之喷涂装置 较佳实施例之立体图; 图二系显示本创作喷涂平台、喷头位移机构与喷 头间之配置关系立体图; 图三系显示本创作喷头与可移行承架、延伸臂、 与待喷涂基板间配置关系之局部扩大立体图; 图四系显示本创作基板定位结构之盖板于掀起时 之立体图; 图五系显示本创作基板定位结构之盖板掀起时(图 四中之B-B断面)之断面图; 图六系显示本创作基板定位结构之盖板盖覆在定 位板上时之断面图; 图七系显示本创作于喷涂平台内部底面设置有底 部加热装置之仰视立体图。 |
