| 摘要 |
<p>Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Behandeln eines Substrats (20) in einer Lichtbogenverdampfungsvorrichtung (10), in der in einem evakuierten Raum (12) zwischen einer Anode und einemals Kathode wirkenden aus Metall bestehenden Target (14, 16, 18) ein Lichtbogenstrom der Stärke I zum Verdampfen von Targetmaterial und Erzeugen einer Metallionendichte fließt. Um ein Behandeln des Substrats (20) ohne unerwünschtes Aufheizen dieses zu ermöglichen, wird vorgeschlagen, dass die für das Behandeln des Substrats wirksame Metallionendichte pro Target (14, 16, 18) durch zumindest teilweises Abdecken des Targets eingestellt wird.</p> |
