发明名称 | 磁致电阻性材料和磁致电阻膜 | ||
摘要 | 本发明涉及磁致电阻材料及其膜。该材料是非磁性基质和分散在非磁性基质内的铁磁性材料如Co或Ni-Fe-Co的超细粒子组成的非均匀体系。为了减轻磁致电阻效应的退化,使用含有Pt和至少一种选自Cu、Ag、和Au中的金属元素的合金或混合物作为非磁性基质的材料。非磁性基质可任选地含有限量的选自Al、Cr、In、Mn、Mo、Nb、Pd、Ta、Ti、W、V、Zr和Ir的辅助元素。磁致电阻材料膜可在基体上成膜,并可任选地在膜和基体间插入缓冲膜和/或用保护层覆盖该膜。 | ||
申请公布号 | CN1096690C | 申请公布日期 | 2002.12.18 |
申请号 | CN95109128.X | 申请日期 | 1995.07.01 |
申请人 | 日本电气株式会社 | 发明人 | 林一彦;山本英文;藤方润一;石原邦彦 |
分类号 | H01F1/01;H01F10/16 | 主分类号 | H01F1/01 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 杨丽琴 |
主权项 | 1.一种磁致电阻材料,它基本上由导电性非磁性材料的基质和分散于该非磁性基质中的导电性铁磁性材料的亚微料粒子组成,其特征在于,所述非磁性材料包含Pt和至少一种选自Cu、Ag和Au的金属元素。 | ||
地址 | 日本东京 |