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发明名称 WAFER ROTARY HOLDING APPARATUS AND WAFER SURFACE TREATMENT APPARATUS WITH WASTE LIQUID RECOVERY MECHANISM
摘要
申请公布号 SG93257(A1) 申请公布日期 2002.12.17
申请号 SG20000004814 申请日期 2000.08.25
申请人 MIMASU SEMICONDUCTOR INDUSTRY CO., LTD. 发明人 TSUCHIYA, MASATO;OGASAWARA, SHUNICHI;MUROOKA, HIDEYUKI
分类号 H01L21/00;H01L21/683;(IPC1-7):H01L21/68;H01L21/02 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人
主权项
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