| 发明名称 |
Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen einer dünnen Schicht und Verwendung dieses Verfahrens zur Bildung einer dünnen Schicht |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE19511783(C2) |
申请公布日期 |
2002.12.12 |
| 申请号 |
DE19951011783 |
申请日期 |
1995.03.30 |
| 申请人 |
AGENCY OF INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY, TOKIO/TOKYO |
发明人 |
ABE, YOSHIYUKI |
| 分类号 |
B01J19/00;C23C14/22;C23C16/44;H01L21/203;(IPC1-7):C23C16/44;C23C16/24;C23C16/27 |
主分类号 |
B01J19/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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