| 发明名称 |
Photolithography method, photolithography mask blanks, and method of making |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US2002187407(A1) |
申请公布日期 |
2002.12.12 |
| 申请号 |
US20020210658 |
申请日期 |
2002.07.31 |
| 申请人 |
PRIESTLEY RICHARD S.;SEMPOLINSKI DANIEL R.;YU CHUNZHE C. |
发明人 |
PRIESTLEY RICHARD S.;SEMPOLINSKI DANIEL R.;YU CHUNZHE C. |
| 分类号 |
G03F1/08;C03C3/06;G03F1/14;G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):G03F9/00;C03B19/06;C03B19/00;G21K5/00;G03B27/42;G02B6/00;C03C13/00;C03B37/075;G02B6/18;C03B37/018;B32B17/06;C03B37/10;B32B9/00;B32B15/00 |
主分类号 |
G03F1/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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