光吸收性聚合物、光吸收膜形成性组成物及光吸收膜及用它之反射防止膜

摘要

目的：提供对特定波长光具有高度吸收特性，对基板的黏着性、薄膜形成性优良，抗蚀剂依赖性无，可溶于照相抗蚀剂用溶剂，烘烤后不溶化，光吸收性色素呈化学性结合的光吸收性聚合物，含此聚合物的光吸收膜形成性组成物，以及由此组成物所形成反射防止膜等之光吸收膜。构成：光吸收性聚合物，系由至少具有在侧链有酮基和更好是亚甲基的单体所构成重复单位，和在主链直接或藉由连接基结合有机发色团，而可吸收特定波长光的单体所构成重复单位之共聚物所制成。此光吸收性聚合物可溶于醇类、芳族烃、酮、酯等溶剂，涂布于晶圆上，烘烤即得反射防止膜等光吸收膜。在此膜上涂布例如化学增幅型抗蚀剂，于远紫外线曝光后显像，即形成不受静止波影响的微细抗蚀剂图型。

主权项

1.一种可吸收特定波长光之光吸收性聚合物,具有至少占全部重复单位之5莫耳%的下式(1)所示之重复单位,和至少占全部重复单位的10莫耳%之下式(2)所示之重复单位,式(1)中R1和R2可彼此相同或不同,代表氢原子、烷基或其他有机基,R3为具有至少一碳醯基之有机基,式(2)中R4和R5可彼此相同或不同,代表氢原子、烷基、羧基、或其他有机基,Y为具有可吸收特定波长的有机发色团,有机发色团系直接或藉经连接基结合于主链之碳原子;其中式(1)所示重复单位系(a)下式(4)所示重复单位、(b)下式(5)所示重复单位:式中R1,R2,R8,R9.R10可彼此相同或不同,代表氢原子、烷基,或其他有机基;式中R1,R2,R12,R13,R14可彼此相同或不同,代表氢原子、烷基、或其他有机基,而R11代表二价基。2.如申请专利范围第1项之可吸收特定波长光之光吸收性聚合物,其中式(5)内R11为-OR15O-基,而R15代表可被取代的直链、支链、环型烷撑基,或可被取代的苯撑基者。3.如申请专利范围第1项之可吸收特定波长光之光吸收性聚合物,其中R15为乙烯基。4.如申请专利范围第1项之可吸收特定波长光之光吸收性聚合物,其中式(5)内R11为-NHR15O-基,而R15代表可被取代的直链、支链、环型烷撑基、或可被取代的苯撑基者。5.如申请专利范围第4项之可吸收特定波长光之光吸收性聚合物,其中R15为乙烯基者。6.如申请专利范围第1-5项中任一项可吸收特定波长光之光吸收性聚合物,其中式(2)所示重复单位为下式(6)所示重复单位:式中R4和R5可彼此相同或不同,代表氢原子、烷基、羧基,或其他有机基,Ar为可吸收特定波长光的发色团,可以取代基加以取代的苯环基,缩合环基或杂环基,此等基直接或经由连接基结合于主链碳原子者。7.如申请专利范围第1-5项中任一项可吸收特定波长光之光吸收性聚合物,其中式(2)所示重复单位为下式(7)所示:式中R4和R5可彼此相同或不同,代表氢原子、烷基、羧基,或其他有机基,X2为O,S,NR16,或至少含一碳原子的直链、支链或环状烷撑基之任一种烷撑基,R16代表氢原子,可被取代的苯基、环型、直链或支链烷基,Ar1为可吸收特定波长光的发色团,可被取代基取代的苯环基、缩合环基或杂环基,此等基直接或藉由连接基结合于X2。8.如申请专利范围第1项之光吸收性聚合物;其系使用于光吸收膜形成性组成物上。9.如申请专利范围第8项之光吸收性聚合物,其系使用于一种将之涂布在基板上,并加以烘烤以形成光吸收膜之形成吸收膜的方法中。10.如申请专利范围第1-5项中任一项之光吸收性聚合物,其系使用于光吸收膜上。11.如申请专利范围第10项之光吸收性聚合物,其中光吸收膜为反射防止膜。