发明名称 光敏性高分子聚合物
摘要 一种光敏性高分子聚合物,其系含有如下式(II)之结构单元其中R代表H或C1-C4烷基;R’代表C1-C4烷基;n为2、3、4、5或、6的整数。本发明之光敏性高分子聚合物可用于制备化学增幅光阻剂组成物,此化学增幅光阻剂组成物可以应用在一般的微影成像制程,尤其是波长193nm光源的微影成像制程,并具有极佳的解析度、轮廓及感光度。
申请公布号 TW513445 申请公布日期 2002.12.11
申请号 TW089111659 申请日期 2000.06.14
申请人 台湾永光化学工业股份有限公司 发明人 张尚文;李晏成;林上贺
分类号 C08F20/18;G03F7/027 主分类号 C08F20/18
代理机构 代理人 吴冠赐 台北巿信义路四段四一五号十三楼之三;苏建太 台北巿信义路四段四一五号十三楼之三;林志鸿 台北巿信义路四段四一五号十三楼之三
主权项 1.一种光敏性高分子聚合物,其系含有如下式(II)之 结构单元 其中R代表H或C1-C4烷基;R'代表C1-C4烷基;n为2.3.4.5或6 的整数。2.如申请专利范围第1项之光敏性高分子 聚合物,其中R'为甲基。3.如申请专利范围第1项之 光敏性高分子聚合物,其中n为3。4.如申请专利范 围第1项之光敏性高分子聚合物,其系为含有如下 式(III)结构单元之高分子聚合物: 其中g+h+i=1。5.如申请专利范围第4项之光敏性高分 子聚合物,其中式 (III)结构单元之g/(g+h+i)=0.1至0.5,h/(g+h+i)=0.1至0.5,i/(g +h+i)=0.1至0.5。6.如申请专利范围第1项之光敏性高 分子聚合物,其系为含有如下式(IV)结构单元之高 分子聚合物: 其中g+h+i=1。7.如申请专利范围第6项之光敏性高分 子聚合物,其中式 (IV)结构单元之g/(g+h+i)=0.1至0.5 ,h/(g+h+i)=0.1至0.5,i/(g +h+i)=0.1至0.5。8.如申请专利范围第1项之光敏性高 分子聚合物,其系为含有如下式(V)结构单元之高分 子聚合物: 其中g+h+i+j=1。9.如申请专利范围第8项之光敏性高 分子聚合物,其中式 (V)结构单元之g/(g+h+i+j)=0.1至0.5,h/(g+h+i+j)=0.1至0.5,i/ (g+h+i+j)=0.1至0.5,j/(g+h+i+j)=0.1至0.5。10.如申请专利 范围第1项之光敏性高分子聚合物,其系为含有如 下式(VI)结构单元之高分子聚合物: 其中g+h+i=1。11.如申请专利范围第10项之光敏性高 分子聚合物,其中式 (VI)结构单元之g/(g+h+i)=0.1至0.5 ,h/(g+h+i)=0.1至0.5,i/(g +h+i)=0.1至0.5。12.如申请专利范围第1项之光敏性高 分子聚合物,其系为含有如下式(VII)结构单元之高 分子聚合物: 其中g+h+i=1。13.如申请专利范围第12项之光敏性高 分子聚合物,其中式 (VII)结构单元之g/(g+h+i)=0.1至0.5 ,h/(g+h+i)=0.1至0.5,i/( g+h+i)=0.1至0.5。14.如申请专利范围第1项之光敏性 高分子聚合物,其系为含有如下式(VIII)结构单元之 高分子聚合物: 其中g+h+i=1。15.如申请专利范围第14项之光敏性高 分子聚合物,其中式 (VIII)结构单元之g/(g+h+i)=0.1至0.5 ,h/(g+h+i)=0.1至0.5,i/ (g+h+i)=0.1至0.5。16.如申请专利范围第1项之光敏性 高分子聚合物,其系可溶于有机溶剂,且玻璃转移 温度Tg介于20至210℃之间,分子量介于1000至500000之 间,分解温度Td大于80℃。17.一种光敏性高分子聚 合物,系由如式(I)化合物 其中R代表H或C1-C4烷基;R'代表C1-C4烷基;n为2.3.4.5或 、6的整数,进行聚合反应或与含乙烯官能基高分 子单体进行共聚合反应所合成。18.如申请专利范 围第17项之光敏性高分子聚合物,其中式 (I)化合物之R'为甲基。19.如申请专利范围第17项之 光敏性高分子聚合物,其中式 (I)化合物之n为3。20.如申请专利范围第17项之光敏 性高分子聚合物,其中含乙烯官能基高分子单体系 选自包括下列族群者:21.如申请专利范围第17项之 光敏性高分子聚合物,其系可溶于有机溶剂,且玻 璃转移温度Tg介于20至210℃之间,分子量介于1000至 500000之间,分解温度Td大于80℃。22.如申请专利范 围第17项之光敏性高分子聚合物,其系用有机自由 基起始剂聚合或有基金属催化聚合。
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