发明名称 电浆处理气体之气体分散盘及其制法
摘要 一种电浆处理气体之气体分散盘,其内部系分布有数个在盘半径之导气槽,其中每一导气槽在该分散盘之上表面设有一进气口,并在该分散盘之下表面形成许多细小之出气孔,以供气体分离地导入及预先处理,较佳地每一进气口系位于导气槽接近圆心之一端,使得能以一上方进气之入气管包覆全部之进气口,此外,该气体分散盘可另设有许多细小之贯通孔,其中该贯通孔系不与导气槽连通,以供不同气体之流通及分散。
申请公布号 TW513489 申请公布日期 2002.12.11
申请号 TW089122513 申请日期 2000.10.24
申请人 庆康科技股份有限公司 发明人 杜家庆;张世丰;郭梨莹
分类号 C23C16/44;H01J37/32 主分类号 C23C16/44
代理机构 代理人 张启威 高雄市左营区立文路七十七号十六楼之二
主权项 1.一种电浆处理气体之气体分散盘,其特征在于该 分散盘之内部系分布有复数个在盘半径之导气槽, 其中每一导气槽在该分散盘之上表面设有一进气 口,并在该分散盘之下表面形成许多细小之出气孔 。2.依申请专利范围第1项所述之电浆处理气体之 气体分散盘,其中每一进气口系位于导气槽接近圆 心之一端。3.依申请专利范围第1项所述之电浆处 理气体之气体分散盘,其中该气体分散盘另设有许 多细小之贯通孔,其中该贯通孔系不与导气槽连通 。4.依申请专利范围第1项所述之电浆处理气体之 气体分散盘,其中该气体分散盘之材质系为金属。 5.依申请专利范围第4项所述之电浆处理气体之气 体分散盘,其中该气体分散盘之材质系为铝、铝合 金或不锈钢。6.依申请专利范围第1项所述之电浆 处理气体之气体分散盘,其中该气体分散盘材质系 为陶瓷。7.依申请专利范围第6项所述之电浆处理 气体之气体分散盘,其中该气体分散盘之材质系为 氧化铝或氮化铝。8.一种申请专利范围第1.2或3项 电浆处理气体之气体分散盘之制法,其步骤至少包 含:在一圆盘侧面钻孔以形成上述之导气槽。9.依 申请专利范围第8项所述之制法,其中在形成该导 气槽后,再将在圆盘侧面之开孔封住。10.依申请专 利范围第8项所述之制法,其中在形成该导气槽后, 再钻设出导气槽之进气口及出气孔。11.一种基板 表面处理之电浆处理室,其主要包含: 载台,其设于该处理室内,以承载基板; 真空帮浦,其连通至该电浆处理室,以将该处理室 内之气体抽离至接近真空压力; 电浆源,其设于该处理室外,以将该处理室内之气 体转变为处理电浆; 至少二入气管,其连通该处理室,以供不同气体导 入该处理室内,其中第一入气管设于该处理室上壁 ; 气体分散盘,其设于该处理室内之上部,而该气体 分散盘之内部系分布有数个在盘半径之导气槽,其 中每一导气槽在该气体分散盘之上表面设有一进 气口,该进气口系连通第一入气管,并在该分散盘 之下表面形成许多细小之出气孔,藉由该气体分散 盘使得由一上方进气之第一入气管导入之气体通 过导气槽而分散于该处理室内。12.依申请专利范 围第11项所述之电浆处理室,其中该气体分散盘之 每一进气口系位于导气槽接近圆心之一端。13.依 申请专利范围第11项所述之电浆处理室,其中该气 体分散盘另设有许多细小之贯通孔,而该贯通孔系 不与导气槽连通。14.依申请专利范围第13项所述 之电浆处理室,其中第二入气管系设置于在该处理 室上壁与该气体分散盘之间之侧壁,使得由第二入 气管导入之气体通过该气体分散盘之贯通孔而分 散于该处理室内。15.依申请专利范围第11或I4项所 述之电浆处理室,其中该处理室另包含第二电浆源 ,其设于处理室外,以先行将由第一入气管导入之 气体转换为电浆。16.依申请专利范围第15项所述 之电浆处理室,其中第二电浆源包含一微波产生器 ,以将由第一入气管导入之气体激发为点火电浆。 17.依申请专利范围第11项所述之电浆处理室,其中 该电浆源系包含有射频[RF]电源,以将该处理室内 之气体耦合为电浆。18.依申请专利范围第17项所 述之电浆处理室,其中该气体分散盘系作为该射频 电源之电极。19.依申请专利范围第1项所述之电浆 处理气体之气体分散盘,其中该复数个导气槽区分 为复数个群组,而同一群组之导气槽之进气口系位 于同一圆之周缘,且不同群组之导气槽之进气口系 位于不同一大小圆之周缘,而复数个群组之导气槽 之进气口在该圆盘上构成复数个不同半径之同心 圆,以供多种气体由上方分离导入。20.依申请专利 范围第19项所述之电浆处理气体之气体分散盘,其 中该出气孔之孔径在0.3-1.2mm之间。21.依申请专利 范围第19项所述之电浆处理气体之气体分散盘,其 中该气体分散盘平均分布有十二个导气槽,并区分 为三组,同一组导气槽之进气口与该圆盘之圆心具 有相等之距离而形成一圆,此三组导气槽组之进气 口形成三个不同半径之同心圆。22.一种电浆处理 室,用以处理基板,其至少包含; 一气体分散盘,该盘系呈圆盘状而设于处理室内之 上方,其盘内形成有复数群组之导气槽,其中每一 导气槽系位于通过该圆盘圆心之半径路径上,其在 该圆盘之上表面设有一进气口,并在该圆盘之下表 面分布有许多小出气孔,而同一群组之导气槽之进 气口系在相同圆之周缘,该复数群组之导气槽之进 气口在该圆盘上构成多个不同半径之同心圆,以供 多种气体由上方分离导入处理室内; 一基板载台,设于处理室内之下方,用以承载基板; 一抽气帮浦,用以抽气减压至处理压力;及 一射频电浆源装置,用以将由上述气体分散盘导入 之多种不同气体成为电浆。23.依申请专利范围第 22项所述之电浆处理室,其中该气体分散盘之出气 孔之孔径在0.1-1.2mm之间。24.依申请专利范围第22 项所述之电浆处理室,其中该气体分散盘平均分布 有十二个导气槽,并将其区分为三组,同一组导气 槽之进气口与该圆盘之圆心具有相等之距离而形 成一圆,不同导气槽组之进气口形成不同半径之同 心圆。25.依申请专利范围第22项所述之电浆处理 室,其中该气体分散盘在该处理室内系可旋转。图 式简单说明: 第1图:习知电浆处理之气体分散盘之俯视图; 第2图:本发明第一具体实施例之气体分散盘之俯 视图; 第3图:本发明第一具体实施例之气体分散盘之仰 视图; 第4图:本发明第一具体实施例之气体分散盘运用 于一处理室之剖面图; 第5图:本发明第一具体实施例之气体分散盘运用 于另一处理室之剖面图; 第6图:本发明第二具体实施例之气体分散盘之俯 视图; 第7图:本发明第二具体实施例之气体分散盘之仰 视图;及 第8图:本发明第二具体实施例之气体分散盘在一 电浆处理室内之剖面图。
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