| 主权项 |
1.一种微区域亲水性强化载片之制备方法,包括: (a)于溶剂将疏水性材料与择自酸酐、醯亚胺、环 胺、环酯或其混合物所组成的族群混掺、接枝或 共聚合,以制备疏水性共聚物形成疏水性共聚物溶 液; (b)将该疏水性共聚物溶液涂布至一基材上;以及 (c)移除该溶剂。2.如申请专利范围第1项所述之方 法,其中该疏水性材料系择自苯乙烯、胺基甲酸酯 、乙烯或其衍生物所组成的族群中。3.如申请专 利范围第2项所述之方法,其中该疏水性共聚物包 括聚(苯乙烯-共-顺丁烯二酸酐)、聚(苯乙烯-共-顺 丁烯二醯亚胺)或聚(乙烯-共-顺丁烯二酸酐)。4.如 申请专利范围第1项所述之方法,其中该基材包括 有机基材或无机基材。5.如申请专利范围第4项所 述之方法,其中该有机基材包括有机分子聚合而成 之聚合物,其中该有机分子系择自乙烯、苯乙烯、 丙烯、酯类、丙烯酸、丙烯酸酯、顺丁烯二酸酐 、顺丁烯二醯亚胺、烷基丙烯酸或烷基丙烯酸酯 所组成的族群中。6.如申请专利范围第5项所述之 方法,其中该有机基材包括(苯乙烯-共-顺丁烯二酸 酐)、聚(苯乙烯-共-顺丁烯二醯亚胺)或聚(乙烯-共 -顺丁烯二酸酐)所组成的基材。7.如申请专利范围 第4项所述之方法,其中该无机基材包括矽晶片、 陶瓷材料、玻璃或金属。8.如申请专利范围第1项 所述之方法,其中在涂布该基材之前,更包括将该 基材表面进行活化的处理。9.如申请专利范围第8 项所述之方法,其中表面活化的处理包括以酸、硷 或电浆镀膜的方式处理该基材表面。10.如申请专 利范围第9项所述之方法,其中该基材为无机基材 。11.如申请专利范围第1项所述之方法,可在步骤(b )前,预先清洁该基材表面。12.如申请专利范围第11 项所述之方法,其中该基材表面的清洁,系使用溶 剂清洗及/超音波震荡之前处理。13.如申请专利范 围第12项所述之方法,其中该溶剂系择自界面活性 剂、水、酒精或丙酮所组成的族群中。14.如申请 专利范围第1项所述之方法,其中该涂布的方法包 括旋转涂布、浸镀涂布、网印涂布、滚筒涂布或 帘幕涂布。15.如申请专利范围第14项所述之方法, 其中该涂布的方法为旋转涂布。16.如申请专利范 围第1项所述之方法,其中该移除溶剂的方法包括 真空蒸发、减压蒸发或加热蒸发。17.如申请专利 范围第16项所述之方法,其中加热蒸发系在不超过 100℃的温度下进行。18.一种微区域亲水性强化载 片,包括: (i)基材;以及 (ii)由疏水性材料与择自酸酐、醯亚胺、环胺、环 酯或其混合物所组成的族群混掺、接枝或共聚合 而得之疏水性共聚物所形成之疏水性官能基介层, 其涂布至该基材上。19.如申请专利范围第18项所 述之载片,其中该疏水性材料系择自苯乙烯、胺基 甲酸酯、乙烯或其衍生物所组成的族群中。20.如 申请专利范围第19项所述之载片,其中该疏水性共 聚物包括聚(苯乙烯-共-顺丁烯二酸酐)、聚(苯乙 烯共-顺丁烯二醯亚胺)或聚(乙烯-共-顺丁烯二酸 酐)。21.如申请专利范围第18项所述之载片,其中该 基材包括有机基材或无机基材。22.如申请专利范 围第21项所述之载片,其中该有机基材包括有机分 子聚合而成之聚合物,其中该有机分子系择自乙烯 、苯乙烯、丙烯、酯类、丙烯酸、丙烯酸酯、顺 丁烯二酸酐、顺丁烯二醯亚胺、烷基丙烯酸或烷 基丙烯酸酯所组成的族群中。23.如申请专利范围 第22项所述之载片,其中该有机基材包括聚(苯乙烯 -共-顺丁烯二酸酐)、聚(苯乙烯-共-顺丁烯二醯亚 胺)或聚(乙烯-共-顺丁烯二酸酐)所组成的基材。24 .如申请专利范围第21项所述之载片,其中该无机基 材包括矽晶片、陶瓷材料、玻璃或金属。25.一种 微区域亲水性强化载片微阵列,包括: (i)基材; (ii)由疏水性材料与择自酸酐、醯亚胺、环胺、环 酯或其混合物所组成的族群混掺、接枝或共聚合 而得之疏水性共聚物所形成之疏水性官能基介层, 其涂布至该基材上;以及 (iii)生物活性介层,其固定于该疏水性官能基介层 之上。26.如申请专利范围第25项所述之微阵列,其 中该疏水性材料系择自苯乙烯、胺基甲酸酯、乙 烯或其衍生物所组成的族群中。27.如申请专利范 围第26项所述之微阵列,其中该疏水性共聚物包括 聚(苯乙烯-共-顺丁烯二酸轩)、聚(苯乙烯-共-顺丁 烯二醯亚胺)或聚(苯乙烯-共-顺丁烯二酸酐)。28. 如申请专利范围第25项所述之微阵列,其中该基材 包括有机基材或无机基材。29.如申请专利范围第 28项所述之微阵列,其中该有机基材包括有机分子 聚合而成之聚合物,其中该有机分子系择自乙烯、 苯乙烯、丙烯、酯类、丙烯酸、丙烯酸酯、顺丁 烯二酸酐、顺丁烯二醯亚胺、烷基丙烯酸或烷基 丙烯酸酯所组成的族群中。30.如申请专利范围第 29项所述之微阵列,其中该有机基材包括聚(苯乙烯 -共-顺丁烯二酸酐)、聚(苯乙烯-共-顺丁烯二醯亚 胺)或聚(乙烯-共-顺丁烯二酸酐)所组成的基材。31 .如申请专利范围第28项所述之微阵列,其中该无机 基材包括矽晶片、陶瓷材料、玻璃或金属。32.如 申请专利范围第25项所述之微阵列,其中该生物活 性介层包括核酸、寡核酸、胜核酸、抗原、 抗体、酵素或蛋白质之生物活性固定化介层。33. 如申请专利范围第25项所述之微阵列,其中当应用 于生物活性介层固定化时,具有形成微区域亲水性 强化之特性。图式简单说明: 第1图系显示聚(苯乙烯-共-顺丁烯二醯亚胺)之合 成示意图。 第2图系显示:中间介层涂布聚苯乙烯的玻璃载片, 经寡核酸探针Sp5固定后之萤光强度图(A),再以0.2 %十二烷基磺酸钠(sodium dodecyl sulfate,SDS)清洗后的 萤光强度图(B);以及中间介层涂布聚(苯乙烯-共-顺 丁烯二酸酐)的玻璃载片,经寡核酸探针Sp5固定 后之萤光强度图(C),再以0.2%十二烷基磺酸钠清洗 后的萤光强度图(D)。 第3图系显示:中间介层涂布聚苯乙烯的玻璃载片, 经寡核酸探针Sp5固定后之萤光强度图(A),再以0.2 %十二烷基磺酸钠清洗后的萤光强度图(B):以及中 间介层涂布聚(苯乙烯-共-顺丁烯二醯亚胺)的玻璃 载片,经寡核酸探针Sp5固定后之萤光强度图(C), 再以0.2%十二烷基磺酸钠清洗后的萤光强度图(D)。 第4图系显示本发明之聚(苯乙烯-共-顺丁烯二酸酐 )载片,经酸硷溶液与载片表面接触角量测所得之 亲水性增强之时间变化图。 第5图系显示本发明之聚(苯乙烯-共-顺丁烯二酸酐 )载片与水、缓冲液及寡核酸探针固定,所得之 亲水性增强之接触角变化图。 第6图系显示本发明之聚(苯乙烯-共-顺丁烯二酸酐 )载片,对寡核酸探针固定的时间-效率图。 第7图系显示在本发明之聚(苯乙烯-共-顺丁烯二酸 酐)载片上,离子强度及pH对寡核酸探针固定的影 响。 第8图系显示在本发明之聚(苯乙烯-共-顺丁烯二酸 酐)载片上,以寡核酸探针固定后,进行杂交反应 之萤光图。 第9图系显示将本发明之聚(苯乙烯-共-顺丁烯二酸 酐)材料,涂布在金烯触媒环烯烃共聚物(metallocene cycloolefine copolymers ,mCOC)载片上,经寡核酸探针Sp5 固定后之萤光强度图(A),再以0.2%十二烷基磺酸钠 清洗后的萤光强度图(B)。 第10图系显示不同比例合成之PSMA材料涂布于玻璃 载片上后,经寡核酸探针Sp5固定后之萤光强度图 (A)以及与水滴之接触角分布图(B)。 第11图系显示本发明之聚(苯乙烯-共-顺丁烯二酸 酐)材料,涂布于玻璃载片上,经寡核酸探针Sp5固 定后之萤光强度图(A),以及其固定化效率之相对标 准偏差图(B)。 第12图系显示中间介层涂布聚(乙烯-共-顺丁烯二 酸酐),经寡核酸探针Sp5固定后之萤光强度图(A), 再以0.2%十二烷基磺酸钠清洗后的萤光强度图(B)。 |
