| 发明名称 | 布线图形的布局方法、半导体器件及图形的光学修正方法 | ||
| 摘要 | 一种布线图形的布局方法。用该方法,生成在第1方向上延伸的线宽为W的第1布线图形,在与上述第1布线图形正交的方向上延伸的线宽为W的第2布线图形使得其终端部分在上述第1布线图形的终端部分处结束,把上述第1或第2布线图形中的任何一方的终端部分弯曲成直角,生成L形延长部分,生成使上述第1和第2布线图形彼此重叠的重叠区域,在该重叠区域上,生成长方形的通孔图形。 | ||
| 申请公布号 | CN1384540A | 申请公布日期 | 2002.12.11 |
| 申请号 | CN02118396.1 | 申请日期 | 2002.04.26 |
| 申请人 | 株式会社东芝 | 发明人 | 五十岚睦典;山田正昭;桥本耕治;高岛诚;池内敦彦 |
| 分类号 | H01L21/82;G06F17/50 | 主分类号 | H01L21/82 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王永刚 |
| 主权项 | 1.一种布线图形的布局方法，包括：生成在第1方向上延伸的线宽为W的第1布线图形，生成在与上述第1布线图形正交的方向上延伸的线宽为W的第2布线图形，使得其终端部分在上述第1布线图形的终端部分处结束，把上述第1或第2布线图形中的任何一方的终端部分弯曲成直角，生成L形延长部分，生成使上述第1和第2布线图形彼此重叠的重叠区域，在上述重叠区域上，生成长方形的通孔图形。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||