发明名称 Lithographic apparatus and device manufacturing method
摘要 <p>A control system for the mask table (patterning means) and substrate table predicts the momentary substrate table position error and feeds it into the mask table control loop, adding it to the mask table set point and as a force to the mask table. &lt;IMAGE&gt;</p>
申请公布号 EP1265106(A2) 申请公布日期 2002.12.11
申请号 EP20020253926 申请日期 2002.06.06
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 BUTLER, HANS
分类号 G03F7/20;(IPC1-7):G03F7/20;G03F9/00 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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