| 摘要 |
<p>Es wird ein ortsaufgelöstes Ellipsometrieverfahren zur quantitativen und/oder qualitativen Bestimmung von Probenänderungen beschrieben. Die Probe befindet sich auf einem mit mindestens einer Metallschicht versehenen Probenträger. Mittels der ellipsometrischen Messung werden die Parameter Ψ und Δ ermittelt, wobei der Einfallswinkel und/oder die Frequenz der für die ellipsometrischen Messungen verwendeten elektromagnetischen Strahlung derart eingestellt wird, dass in der Metallschicht eine gedämpfte Oberflächenplasmonenresonanz angeregt wird. Die Detektionsempfindlichkeit (δcosΔ)/(Einheit der Probenänderung) wird über die Dicke der Metallschicht eingestellt. Die elektromagnetische Strahlung wird auf der der Probe abgewandten Seite des Probenträgers flächig eingestrahlt und bei mindestens einem Einfallswinkel und mindestens einer Frequenz werden mindestens zwei zeitlich versetzte, simultane, ortsaufgelöste ellipsometrische Messungen an der Probe/den Proben durchgeführt und wenigstens die jeweils dazugehörigen Δ bzw. cosΔ-Werte zur Ermittlung der Probenänderung ausgewertet.</p> |
