| 摘要 |
<p>Eine Aufgabe der Erfindung besteht im Bilden eines ausgezeichnet sichtbaren markierten Punktes, während verhindert wird, daß die Partikel an einem Halbleiterwafer haften. Ein Halbleiterwafer (1) wird auf einer Waferbühne (2) gehalten, während ein Laserstrahl (3) von oben auf eine vorgegebene Markierungsstelle auf dem Halbleiterwafer (1) gerichtet wird. Über dem Halbleiterwafer (1) ist angrenzend eine rahmenförmige Absaugeinheit (10) vorgesehen, die einen Bereich (den Markierungsbereich), in dem eine Markierung mit dem Laserstrahl (3) ausgeführt wird, umgibt. Die Absaugeinheit (10) saugt in ihr vorhandenes Gas ab, so daß die Partikel, die erzeugt werden, wenn der Laserstrahl (3) eine hohe Intensität hat, effektiv aufgefangen werden können.</p> |
