发明名称 SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
摘要 <p>펀치스루 내성을 높인다. 카운터 도핑층(5)에 대향하는 게이트 전극(7)이, 반도체 기판(100) 주면에 형성된 홈(50)에 매설되고, 홈(50)의 양측에 소스·드레인층(12)이 형성되어 있다. 이에 따라, 카운터 도핑층(5)보다도 소스·드레인층(12)이 얕게 형성되어 있다.</p>
申请公布号 KR100363353(B1) 申请公布日期 2002.12.05
申请号 KR20010006973 申请日期 2001.02.13
申请人 发明人
分类号 H01L21/28;H01L21/336;H01L29/417;H01L29/78 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
主权项
地址