发明名称 | 光学记录介质 | ||
摘要 | 本发明的目的是提供记录灵敏度优异和适合用于高速记录的光学记录介质。因此,本发明是包含基底和提供在该基底上的激光可写和/或可读的记录层的光学记录介质,其中所述记录层含有螯合染料,该螯合染料包含具有不同结构的两种或多种偶氮化合物和二价或多价金属离子,以及所述偶氮化合物选自用通式(I)和通式(II)表示的偶氮化合物。 | ||
申请公布号 | CN1383402A | 申请公布日期 | 2002.12.04 |
申请号 | CN01801679.0 | 申请日期 | 2001.04.17 |
申请人 | 三菱化学株式会社 | 发明人 | 照田尚;畑理惠子;今村悟 |
分类号 | B41M5/26;G11B7/24;C09B45/00;C09B45/14 | 主分类号 | B41M5/26 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 庞立志;钟守期 |
主权项 | 1、包含基底和提供在该基底上的激光可写和/或可读的记录层的光学记录介质,其中所述记录层含有螯合染料,该螯合染料包含具有不同结构的两种或多种偶氮化合物和二价或更高价的金属离子,以及所述偶氮化合物分别选自用以下通式(I)和以下通式(II)表示的偶氮化合物:<img file="A0180167900021.GIF" wi="832" he="250" />其中环A表示可以具有一个或多个取代基的芳族杂环;环B表示芳族烃环,芳族杂环,或者这些环之一与一个或多个饱和环的稠环,以及这些环每个可以具有除X以外的一个或多个取代基;以及X表示具有活性氢的基团;<img file="A0180167900022.GIF" wi="809" he="246" />其中环C表示可以具有一个或多个取代基的芳族杂环;环D表示芳族烃环,芳族杂环,或者这些环之一与一个或多个饱和环的稠环,以及这些环每个可以具有除X以外的一个或多个取代基;以及X表示具有活性氢的基团。 | ||
地址 | 日本东京都 |