Method and apparatus for heating of substrates

摘要

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Aufheizung von Substraten, wobei das zu beschichtende Substrat mit der zu beschichtenden Fläche auf eine Heizvorrichtung, die mit einer Glaskeramikplatte abgedeckt ist und für das Substrat eine passende Aussparung aufweist, gesetzt wird, das Substrat von unten auf die Prozesstemperatur für die Beschichtung aufgeheizt wird und das Substrat aus der Heizvorrichtung entnommen wird und in eine Beschichtungskammer eingebracht und beschichtet wird. Die erfindungsgemäße Vorrichtung wird zum Aufheizen von Substraten, insbesondere Glassubstraten, die nachfolgend beschichtet werden, verwendet.