| 主权项 |
1.一种制造氰化氢的方法,包括:(a)导引包括甲烷及氨之气态原料流至基质层反应器输入端,其中而且甲烷及氨之浓度系至少该原料流体积之50%;(b)导引该原料流至反应器内之空腔;(c)导引该原料流从该空腔经由数个进料管之内部分,该进料管具有输入端及输出端,进料管延伸通过不透气屏障以至于该进料管输入端系放置在空腔内而且该进料管之输出端不是定位于放置该反应器内之耐热材料的基质层内,就是放置在邻近反应器内基质层之空隙,在远离该不透气屏障的位置;(d)维持至少800℃之反应温度在至少一部份反应器内;(e)反应甲烷与氨以形成包括氰化氢之气态产物流;而且(f)从反应器离开该气态产物流藉由通过气态产物环绕该进料管之外部分而且通过反应器输出端,因此气体流在进料管内可恢复地被预热藉由该气态产物流所具有之热量。2.如申请专利范围第1项所述之方法,进一步包括提供热量至反应器内耐热材料之基质层。3.如申请专利范围第2项所述之方法,其中该热量由配置在反应器内之电加热器所供应。4.一种制造氰化氢的方法,包括:(a)提供一基质层反应器包括:(i)用于原料流之反应器输入端及用于产物流之反应器输出端;(ii)反应器部分包括耐热材料之基质层,该耐热材料介于反应器输入端及反应器输出端间被放置;(iii)一空腔放置介于反应器输入端及不透气屏障间,其屏障系介于该基质层及空腔间被放置;(iv)数个进料管,该进料管具有内部分、外部分、输入端及输出端,该进料管延伸该不透气屏障以至于该进料管之输入端被放置于空腔内而且该进料管之输出端系不是放置于该反应器内之耐热材料的基质层内,就是放置在邻近反应器内基质层之空隙,反应器在远离该不透气屏障的位置;而且(v)用于加热基质层之设备;(b)导引包括甲烷及氨之气态原料流通过反应器输入端而且进入空腔,其中甲烷及氨之浓度系至少该原料流体积之80%;(c)导引该原料流从空腔经过数个进料管之内部分;(d)启动该加热设备以便维持至少反应器部分内至少800℃之反应温度;(e)反应甲烷与氨以形成包括氰化氢之气态产物流;而且(f)排出该气态产物流从反应器经过反应器输出端,因此该流以逆流方式流动沿着进料管之外部分离开该反应器前以预热流经该进料管内部之原料流。5.如申请专利范围第1项或第4项所述之方法,其中至少在该进料管内中之至少一部份的甲烷及氨达到反应温度且反应形成氰化氢。6.如申请专利范围第1项或第4项所述之方法,其中在该进料管外侧而于该基质层之中至少一部份的甲烷及氨达到反应温度且反应形成氰化氢。7.一种制造氰化氢的方法,包括:(a)导引包括甲烷及氨之气态原料流至基质层反应器输入端,其中而且甲烷及氨之浓度系至少该原料流体积之80%;(b)导引该原料流进入被放置反应器内之耐热材料的基质层;(c)维持至少800℃温度在至少一部份基质层内;(d)反应甲烷与氨以形成包括氰化氢之气态产物流;(e)从反应器排出该气态产物流藉由以逆流方式流动该气态产物流至反应器内进入原料流之流动方向,因此气体流在反应器内可恢复地被预热藉由该气态产物流所具有之热量。8.如申请专利范围第1项,第4项或第7项所述之方法,其中该反应温度系至少1000℃而且离开反应器该气态产物之温度系低于800℃。9.如申请专利范围第8项所述之方法,离开反应器该气态产物之温度系低于600℃。10.如申请专利范围第1项,第4项或第7项所述之方法,其中在排出反应器之气态产物流中氰化氢之浓度是至少体积之15%。11.如申请专利范围第1项,第4项或第7项所述之方法,其中反应器内压力系低于1大气压。12.一种制造氰化氢的方法,包括:(a)导引包括甲烷及氨之气态原料流至基质层反应器输入端,其中而且甲烷及氨之浓度系至少该原料流体积之80%;(b)导引该原料流进入被放置反应器内之非催化、耐热材料的基质层;(c)维持至少800℃温度及低于1大气压之反应压力在至少一部份基质层内;(d)反应甲烷与氨以形成包括氰化氢之气态产物流;(e)从反应器排出该气态产物流。13.如申请专利范围第1项,第4项,第7项或第12项所述之方法,其中反应器内压力系低于0.5大气压。14.一种内部电热式可恢复加热之反应器(20),包括:(a)用于原料流之反应器输入端(16)及用于产物流之反应器输出端(18);(b)一部份反应器包括耐热材料(78)之基质层(82)被放置介于反应器输入端(16)及反应器输出端(18)间;(c)一空腔(62)被放置介于反应器输入端(16)及不透气屏障(74)间,其该不透气屏障(74)被放置介于该基质层(82)及空腔(62)间;(d)复数个进料管(70),该进料管具有内部分、外部分、输入端及输出端,该进料管(70)延伸该不透气屏障(74)以至于该进料管(70)之输入端被放置于空腔(62)内而且该进料管(70)之输出端系不是放置于该反应器内之耐热材料(78)的基质层(82)内,就是放置在邻近反应器内基质层(82)之空隙(84),反应器在远离该不透气屏障(74)的位置;(e)电加热设备(90)用于加热基质层(82),该电加热设备(90)被配置于反应器(20)内;而且(f)第二不透气屏障(92)被放置介于耐热材料之基质层(82)及该电热设备(90)间以防止气体流从反应器至电热设备(90);其中该原料流系从该空腔(62)被导引通过该复数个进料管(70)之内侧部份,且该产物流气体藉由通过环绕该进料管(70)之外侧部份且通过该反应器输出端(18)从该反应器离开,藉此该原料流系经由该藉由产物流气体所持有之热能源而可恢复地预先加热。15.如申请专利范围第14项所述之反应器,其中该第二不透气屏障系热感应,应力释放平板以控制方式下延伸,当接触热时。图式简单说明:图1系描述本发明方法之实施例的概略过程图。图2系本发明可用于生产氰化氢之反应器实施例的部分剖面图。图3系本发明可用于生产氰化氢之反应器另一实施例的部分剖面图。图4系本发明可用于生产氰化氢之反应器进一步实施例的部分剖面图。图5系本发明可用于生产氰化氢之反应器另一实施例的部分剖面图。图6系本发明可用于生产氰化氢之反应器另一实施例的部分剖面图。图7系本发明可用于生产氰化氢之反应器另一实施例的部分剖面图。 |
