发明名称 用于磁性光学读写系统之磁性光学磁头及其制造方法
摘要 一种用于磁性光学读写系统之磁性光学头,其具有更改进之磁场规整线圈构造及小型化物镜,以及用以制造该磁性光学头之方法。该磁性光学头装设于可藉液压动力滑移越过磁性光学记录媒体之滑臂端部,其包括:一装设于滑臂端部之镜头,用以对光束聚焦以于磁性光学记录媒体上形成光点;一线圈元件则至少包括两叠置线圈层及一介于两线圈层间之绝缘层;该两叠置线圈层为具有螺旋结构之平面线圈,并具有接点供于其间电气连接;及一介于镜头及线圈元件间之连接件,用以连接线圈元件至镜头一侧边以朝向磁性光学记录媒体,并将线圈层接至外部电源。制造磁性光学头之方法包括:于一基体上成型一抛弃层,于该抛弃层形成线圈元件,该线圈元件至少包括两线圈层及一绝缘层,图型化线圈元件及抛弃层以构成一通孔;成型一电镀图型于线圈元件之线圈层最上方;电镀焊入电镀图型构成焊接突起;除其发光部之外,于镜头底表面涂敷设定图型之金属薄膜,以形成一传导反射层,将发光部置入通孔,并使镜头位于焊接突起上,对该组件加热以熔化焊接突起黏接镜头及线圈元件;然后移除抛弃层将结合之镜头及线圈元件由基晶体分离。
申请公布号 TW512310 申请公布日期 2002.12.01
申请号 TW089112233 申请日期 2000.09.20
申请人 三星电子股份有限公司 发明人 金云培;李炳赞;慎尚宰;延哲诚;李相勋;辛宗佑
分类号 G11B11/105;G11B5/02 主分类号 G11B11/105
代理机构 代理人 陈恕琮 台北市林森北路五七五号十一楼之三
主权项 1.一种用于磁性光学读写系统之磁性光学头,其可 于一磁性光学记录媒体上藉磁场规整写入资料,及 以光学方式由该媒体读取资料,该磁性光学头装设 于一滑动臂一端,并能以液压动力越过磁性光学媒 体,此磁性光学头包含: 一装设于滑动臂端部之镜头,供对光束聚焦以于磁 性光学记录媒体上形成光点; 一线圈元件至少包括两叠置线圈层,及一介装于其 间用以隔绝该两线圈层;一绝缘层,该等线圈层为 具有螺旋结构之平面线圈并可加以电气连接;以及 一连接件设于镜头及线圈元件之间,供将线圈元件 接至镜头一侧,并朝向磁性光记录煤体,及将线圈 层电气连接至外部电源。2.如申请专利范围第1项 所述磁性光学头,其中,该连接件为一焊接突起,供 由线圈元件之最顶部线圈层形成一突起部,并具有 一传导材料以电气连接外部电源,该焊接突起以热 熔黏接镜头。3.如申请专利范围第2项所述磁性光 学头,其中,该焊接突起选自含有锡-铅(Sn-Pb)合金、 银-锡-铅(Ag-Sn-Pb)合金、金-锡(Au-Sn)合金之至少其 中一种合金所制成。4.如申请专利范围第1项所述 磁性光学头,其中,线圈元件该等线圈层具有同状 螺旋结构及方向。5.如申请专利范围第1或2或3或4 项所述磁性光学头,其中,镜头包含: 一传送部供分离传送光束; 一第一反射部朝向该传送部,用以反射光束; 一第二反射部设于传送部周边,供反射第一反射部 之反射光束以对光束聚焦; 一发光部由第一反射部中央向外延伸设定高度,用 以传送第二反射部之聚焦光束;以及 一设于第一反射部外侧边之传导反射层,用以电气 连接外部电源,该传导反射层至少分隔为两部份, 并以熔接方式接合连接件。6.如申请专利范围第5 项所述磁性光学头,其中,发光部设为长于线圈元 件之高度,以防止线圈元件在滑动臂越过时触及磁 性光学记录媒体。7.一种制造用于磁性光学读写 系统磁性光学头之方法,其可藉磁场规整写入资料 ,及以光学方式该媒体读取资料,该磁性光学头装 设于一滑动臂一端,并能以液压动力越过磁性光学 媒体,该方法包含: 于一基晶体上形成一抛弃层; 该抛弃层上形成一线圈元件,此线圈元件至少包括 两线圈层及一绝缘层; 图型化线圈元件及抛弃层以形成一通孔; 形成一电镀图型于线圈元件之最顶部线圈层,并电 镀入该电镀图型以形成焊接突起; 预设一朝向磁性光学记录媒体并含有设定突出长 度发光部之镜头,该镜头用以对光束聚焦供于记录 媒体形成光点,除了发光部之外,于镜头底表面涂 设一设定图型之金属薄膜以形成传导反射层; 将发光部嵌入通孔使镜头位于焊接突起上,并对该 组件加热以熔合焊接突起并黏接镜头于线圈元件; 以及移除抛弃层供由基层上分开镜头及线圈元件 。8.如申请专利范围第7项所述方法,其中,制成线 圈元件包含: 形成一根基层图型供电镀于抛弃层; 熔着设定厚度样模于根基层,并使该样模层形成一 电镀图型; 镀入一金属于电镀图型以形成一含有设定厚度之 线圈层; 于电镀图型及线圈层设有绝缘层;以及 依序重复一次或多次之根基层成型,电镀图型成型 ,线圈层成型及绝缘层成型,以于堆叠层之每一线 圈层间形成平坦之多数叠置线圈层。9.如申请专 利范围第8项所述方法,于成型线圈层后,进一步包 含对电镀图型之加热,以移除电镀模型上之任何残 留溶液,使电镀图型具抗热性。10.如申请专利范围 第9项所述方法,其中电镀图型以预定量设为高于 线圈层厚度,使电镀图顶面在该电镀图型完成加热 后接近线圈层顶面。11.如申请专利范围第8或9或10 项所述方法,其中电镀用根基层以铬-铜(Cr-Cu)或钛- 铜(Ti-Cu)制成。12.如申请专利范围第8或9或10项所 述方法,其中,该绝缘层系以含有Si02及Si3N4及包括 摄相涂料和聚醯亚氨聚合物等非导电材料之至少 其中一种材料所制成。13.如申请专利范围第7或8 或9或10项所述方法,其中,该抛弃层系选自含有钛( Ti)、光阻、铬(Cr)族群之至少其中一种材料所制成 。14.如申请专利范围第7或8或9或10项所述方法,其 中焊接突起系选自含有鍚-铅(Sn-Pb)合金、银-锡-铅 (Ag-Sn-Pb)及金-锡(Au-Sn)合金族群之至少其中一种合 金材料所制成。15.如申请专利范围第7或8或9或10 项所述方法,其中,焊接突起黏接镜头系在氮气或 真空中以无熔融加热之非熔回流焊接法加以达成 。图式简单说明: 第1图为一般磁性光学读写系统平面图; 第2图为传统磁性光学读写系统前视图; 第3图系沿第2图Ⅲ-Ⅲ线方向之底视图; 第4图系本发明较佳实施例用于磁性光学读写系统 装设于一滑动件上之磁性光学头前视图; 第5图系第4图磁性光学头之部份前视图; 第6图系第5图镜头底视简图; 第7图系第4图磁性光学头线圈元件立体分解图; 第8A图至8E图显示本发明较佳实施例中用于磁性光 学读写系统之磁性光学头制造方法剖视图;以及 第9A图至9K图显示本发明使用于磁性光学读写系统 之线圈元件装配放大剖视详图。
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