平台装置、测量装置及测量方法、曝光装置及曝光方法

摘要

提供一种能适合使用于校准显微镜之TIS测量的平台装置。在2维面内移动之平台(WST)上搭载基板保持具(25)，该基板保持具，能藉驱动装置保持基板(W)绕正交于前述2维面之既定旋转轴作大致 180°的旋转。因此，例如，进行校准显微镜之TIS测量时，不需进行将基板卸下、旋转基板后再度装载于基板保持具上的麻烦作业。又，此时，因基板之旋转系将基板保在基板保持具上的状态下进行，故亦无旋转前后产生基板之中心位置偏移等之虞。因此，能在短时间且高精度地进行校准显微镜之TIS测量。

主权项

1.一种平台装置,系用以保持基板,其特征在于,具备:平台,系于2维面内移动;基板保持具,系搭载于前述平台上,能保持前述基板绕与前述2维面正交之既定旋转轴作大致180旋转;以及驱动装置,系用以旋转驱动前述基板保持具。2.一种测量装置,系测量对基板上形成之标记作光学检测之标记检测系统所引起的检测偏差,其特征在于,具备:平台,系于2维面内移动;位置检测系统,用以检测前述平台之位置;基板保持具,搭载于前述平台上,能保持前述基板绕与前述2维面正交之既定旋转轴作大致180旋转,且在前述基板之保持面外侧部分至少配置1个基准标记;驱动装置,用以旋转驱动前述基板保持具;第1检测控制系统,系将前述标记中至少1个特定之基准标记之位置资讯与前述标记中至少1个被选择之位置对准标记之位置资讯,在前述基板保持具之面向系设定于既定方向之第1状态下,使用前述标记检测系统与前述位置检测系统来加以检测;第2检测控制系统,系在透过前述驱动装置将前述基板保持具从前述第1状态旋转180之第2状态下,将在前述第1状态下检测出前述位置资讯之前述各标记之位置资讯,使用前述标记检测系统与前述位置检测系统来加以检测;以及运算装置,系使用前述第1检测控制系统与前述第2检测控制系统之检测结果来算出起因于前述标记检测系统之检测偏差。3.如申请专利范围第2项之测量装置,其中前述第1检测控制系统及前述第2检测控制系统之检测结果,系1个基准标记与前述基板上特定之1个位置对准标记的位置资讯。4.如申请专利范围第2项之测量装置,其中前述第1检测控制系统及前述第2检测控制系统之检测结果,分别含有同一复数个基准标记之位置资讯;前述运算装置,分别统计处理前述复数个基准标记之位置资讯以算出关于前述第1.第2状态之前述基板保持具之位置的资讯,使用该算出结果来算出起因于前述标记检测系统之检测偏差。5.如申请专利范围第2或4项之测量装置,其中前述第1检测控制系统及前述第2检测控制系统之检测结果,分别含有同一复数个位置对准标记之位置资讯;前述运算装置,分别统计处理前述复数个位置对准标记之位置资讯而算出关于前述第1.第2状态之前述基板之位置的资讯,使用该算出结果来算出起因于前述标记检测系统之检测偏差。6.一种曝光装置,系以能量束使基板曝光以在前述基板上形成既定之图案,其特征在于,具备:测量装置,系申请专利范围第2~5项中任一项之测量装置;以及控制装置,系控制曝光时前述平台之位置,来修正以前述测量装置所测量之起因于前述标记检测系统的检测偏差。7.一种测量方法,系用以测量起因于对基板上形成之标记作光学检测之标记检测系统的像差,其特征在于,包含:第1步骤,系在外周部附近至少形成有1个基准标记之基板保持具上,装载至少形成有1个位置对准标记之基板;第2步骤,系将前述基准标记中之至少1个特定之基准标记、与前述基准标记中之至少1个被选择之位置对准标记,在将前述基板保持具之面向设定于既定方向的第1状态下,使用前述标记检测系统检测,根据该检测结果与前述各标记之检测时之前述基板保持具之位置来求出前述检测对象之各标记之位置资讯;第3步骤,系在将前述基板保持具从前述第1状态绕大致正交于前述基板之装载面之既定旋转轴旋转180的第2状态下,使用前述标记检测系统来检测前述检测对象之各标记,根据该检测结果与前述各标记之检测时之前述基板保持具之位置来求出前述检测对象之各标记之位置资讯;以及第4步骤,系使用在前述第2.第3步骤中分别求出之前述检测对象之各标记之位置资讯,算出起因于前述标记检测系统之检测偏差。8.如申请专利范围第7项之测量方法,其中前述第2步骤及第3步骤,系求出1个基准标记与前述基板上特定之1个位置对准标记的位置资讯。9.如申请专利范围第7项之测量方法,其中前述第2步骤及第3步骤所求出之位置资讯,分别含有同一复数个基准标记之位置资讯;前述第4步骤,系分别统计处理前述复数个基准标记之位置资讯以算出关于前述第1.第2状态之前述基板保持具之位置的资讯,使用该算出结果来算出起因于前述标记检测系统之检测偏差。10.如申请专利范围第7或9项之测量方法,其中前述第2步骤及第3步骤所求出之位置资讯,分别含有同一复数个位置对准标记之位置资讯;前述第4步骤,系分别统计处理前述复数个位置对准标记之位置资讯以算出关于前述第1.第2状态之前述基板之位置的资讯,使用该算出结果来算出起因于前述标记检测系统之检测偏差。11.如申请专利范围第10项之测量方法,其中关于前述基板位置之资讯,系根据前述复数个位置对准标记之位置资讯的平均値求出。12.如申请专利范围第9项之测量方法,其中作为前述统计处理之结果而得之关于前述位置的资讯,系规定前述基板保持具之移动的正交座标系统上之座标轴方向的偏心量。13.如申请专利范围第10项之测量方法,其中作为前述统计处理之结果而得之关于前述位置的资讯,系规定前述基板保持具之移动的正交座标系统上之座标轴方向的偏心量。14.一种曝光方法,系以能量束使基板曝光以在前述基板上形成既定图案,其特征在于,包含:测量步骤,系以申请专利范围第7项之测量方法,来测量起因于前述标记检测系统之检测偏差;以及控制步骤,系控制曝光时前述基板保持具之位置,以修正起因于所测量之前述标记检测系统之检测偏差。图式简单说明:图1,系概略显示一实施形态之曝光装置之构成的图。图2,系显示图1之Z倾斜平台与晶圆保持具的部分剖断图。图3,系显示测量用基板上形成之基准标记的扩大图。图4(A)、(B),系用以说明一实施形态之曝光装置之校准显微镜AS之TIS之算出方法的图。图5(A)、(B),系具体显示校准标记与基准标记之测量顺序例的图。