| 主权项 |
1.一种薄膜磁性记录媒体之制造方法,系具有:成膜 制程,在非磁性基体上藉由乾燥处理至少依顺序用 以形成磁性记录层及保护层;及润滑层形成制程, 在前述保护层上用以形成润滑层;其特征为: 在前述成膜制程及前述润滑层形成制程之间,具有 等离子体蚀刻制程在保护层之表面实施等离子体 蚀刻处理,并将由前述成膜制程到前述等离子体蚀 刻制程为止在真空中连绩进行。2.如申请专利范 围第1项所记载之薄膜磁性记录媒体之制造方法, 其中前述成膜制程,系由溅镀法,离子电镀法,等离 子体CVD法,及真空蒸镀法所构成之群以被选择之方 法进行者。3.如申请专利范围第1项所记载之薄膜 磁性记录媒体之制造方法,其中前述之等离子体蚀 刻制程,系可用以使用做为处理气体之不活性气体 ,及由氮,氧,氯,以及氟所构成之群被选择之气体的 混合气体者。4.如申请专利范围第2项所记载之薄 膜磁性记录媒体之制造方法,其中前述之等离子体 蚀刻制程,系可用以使用做为处理气体之不活性气 体,及由氮,氧,氯,以及氟所构成之群被选择之气体 的混合气体者。图式简单说明: 图1系显示先前之薄膜磁性记录媒体之制造制程流 程图。 图2系根据本发明中之制造方法被制造一例的薄膜 磁性记录媒体之剖面略图。 图3系显示本发明中之薄膜磁性记录媒体之制造制 程的流程图。 图4系显示由实施例1至3及比较例1至3设置被取得 之薄膜磁性记录媒体的润滑层前之保护层表面的 粒子数之图。 |
