发明名称 |
Verfahren zur Herstellung indiumhaltiger wässriger Lösungen, die verminderte Mengen an metallischen Verunreinigungen enthalten |
摘要 |
<p>Bereitgestellt wird ein Verfahren zur Herstellung einer indiumhaltigen wäßrigen Lösung mit einer verminderten Menge an metallischen Verunreinigungen. Ein Verfahren zur Herstellung einer indiumhaltigen wäßrigen Lösung mit einer verminderten Menge an metallischen Verunreinigungen, das das Kontaktieren einer wäßrigen Lösung, die Indium und metallische Verunreinigungen enthält, deren Wasserstoffionenkonzentration auf 0,5 mol/l bis 3 mol/l eingestellt ist, mit einem nichtchelatbildenden Ionenaustauscherharz unter Entfernung der metallischen Verunreinigungen umfaßt, und ein Verfahren zur Herstellung einer indiumhaltigen wäßrigen Lösung mit einer verminderten Menge an metallischen Verunreinigungen, das das Kontaktieren einer wäßrigen Lösung, die Indium und metallische Verunreinigungen enthält, mit einem chelatbildenden Ionenaustauscherharz unter Entfernung der metallischen Verunreinigungen umfaßt, werden bereitgestellt.</p> |
申请公布号 |
DE10204831(A1) |
申请公布日期 |
2002.11.28 |
申请号 |
DE2002104831 |
申请日期 |
2002.02.06 |
申请人 |
SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD. |
发明人 |
HATTORI, TAKESHI;FUJIWARA, SHINJI;SAEGUSA, KUNIO |
分类号 |
C01G15/00;C22B7/00;C22B58/00;H01L47/00;(IPC1-7):C01G15/00 |
主分类号 |
C01G15/00 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|