发明名称 电解磷酸盐化学处理方法
摘要 本发明涉及通过在磷酸盐化学处理浴中对金属物品进行电解处理,在该物品的表面上形成由磷酸盐化合物和从离子状态还原和沉淀的金属所组成的膜的一种方法,该电解处理通过使金属材料与磷酸盐化学处理浴进行接触而实现,该磷酸盐化学处理浴含有磷酸根离子和磷酸、硝酸根离子、可与磷酸根离子形成配合物的金属离子,以及溶解-沉淀平衡电位等于或大于-830mV的金属离子,并且基本上不含有与属于膜的组分的那些金属不同的金属离子,在所述的溶解-沉淀平衡电位下已溶解在该磷酸盐化学处理浴中的离子会还原和沉淀为金属,当以氢标准电极电位指示时,该电位是呈现水形式的溶剂的阴极反应分解电位;其中相对于标准氢电极的电位,该磷酸盐化学处理浴的氧化-还原电位ORP保持在等于或大于700mV。
申请公布号 CN1381616A 申请公布日期 2002.11.27
申请号 CN02105245.X 申请日期 2002.02.22
申请人 株式会社电装 发明人 松田茂树;西谷伸
分类号 C25D11/36 主分类号 C25D11/36
代理机构 永新专利商标代理有限公司 代理人 于辉
主权项 1.一种电解磷酸盐化学处理方法,其是通过在磷酸盐化学处理浴中对需要处理的金属材料物品进行电解处理,在需要处理的该物品的表面上形成由磷酸盐化合物和从离子状态还原和沉淀的金属所组成的膜而实现的,该电解处理通过使具有导电性的该金属材料与该磷酸盐化学处理浴进行接触来实现,该磷酸盐化学处理浴含有磷酸根离子和磷酸、硝酸根离子、可与磷酸盐化学处理浴中的磷酸根离子形成配合物的金属离子,以及溶解-沉淀平衡电位是等于或大于-830mV的金属离子,并且基本上不含有与属于膜的组分的那些金属不同的金属离子,在所述的溶解-沉淀平衡电位下已溶解在该磷酸盐化学处理浴中的离子会还原和沉淀为金属,当以氢标准电极电位指示时,该电位是呈现水形式的溶剂的阴极反应分解电位;其中相对于标准氢电极的电位,该磷酸盐化学处理浴的氧化-还原电位ORP被保持在等于或大于700mV。
地址 日本爱知县