| 发明名称 | 具有温度控制的化学机械研磨装置 | ||
| 摘要 | 一种具有温度控制的化学机械研磨装置,利用加热装置将被研磨物的储存装置、传送装置、研磨垫、及托盘加热至设定温度,并以温控仪作精确的全系统温度控制的方法,以得到最好的化学机械研磨结果。 | ||
| 申请公布号 | CN1381873A | 申请公布日期 | 2002.11.27 |
| 申请号 | CN01110709.X | 申请日期 | 2001.04.13 |
| 申请人 | 华邦电子股份有限公司 | 发明人 | 林啟发 |
| 分类号 | H01L21/302;B24B7/22 | 主分类号 | H01L21/302 |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 程伟 |
| 主权项 | 1.一种具有温度控制的化学机械研磨装置，其特征是：包括：研磨垫，在该研磨垫上设有研磨液；托盘，固持一被研磨物，并使该被研磨物在研磨垫上以化学机械法研磨；及加热装置，将托盘加热至一设定温度，使研磨垫、托盘及被研磨物维持在摄氏温差二度内的恒温状态。 | ||
| 地址 | 中国台湾 | ||