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发明名称 Photoresist composition
摘要
申请公布号 EP0881540(B1) 申请公布日期 2002.11.27
申请号 EP19980109376 申请日期 1998.05.22
申请人 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED 发明人 YAKO, YUKO
分类号 G03F7/023;G03F7/004;G03F7/039;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/004;G03F7/09 主分类号 G03F7/023
代理机构 代理人
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