发明名称 低通滤波光学镜片制造方法
摘要 一种低通滤波光学镜片制造方法,其主要包括::一组制式的承具盘,上设矩阵式定距的晶片置放格位;一具有吸点放自动点胶及吸放片装置;而于无尘环境下执行1将排先承具盘上选定格位内之晶片吸取;2于另一承具盘相对格位之晶片上施行定量点胶;3将吸取的晶片盖覆于点胶片上黏合;4将吸点头移至下一组矩阵对位晶片;5重覆以上1~4之行程,完成承具盘上晶片的贴合;藉此,可使晶片置放不会错位,点胶量可为有效控制,并精确迅速进行贴合,减少人为施作品质不稳,及大幅提高产能及品质良率。
申请公布号 TW511336 申请公布日期 2002.11.21
申请号 TW090127866 申请日期 2001.11.09
申请人 钰晶科技股份有限公司 发明人 陈杰明
分类号 H03K3/86;H03H7/12;G02B3/00 主分类号 H03K3/86
代理机构 代理人 潘海涛 台北巿复兴北路六十九号三楼;刘秋绢 台北市复兴北路六十九号三楼
主权项 1.一种低通滤波光学晶片制造方法,其主要包括: 一组制式的承具盘,上设矩阵式定距的晶片置放格 位; 一具有吸点放自动点胶及吸放片装置;于无尘环境 下执行 1将排先承具盘上选定格位内之晶片吸取; 2于另一承具盘相对格位之晶片上施行定量点胶; 3将吸取的晶片盖覆于点胶片上黏合; 4将吸点头移至下一组矩阵对位晶片; 5重覆以上1~4之行程,完成承具盘上晶用的贴合; 藉此,使晶片置放不会错位,点胶量可为有效控制, 并精确迅速进行贴合,减少人为施作品质不稳,及 大幅提高产能及品质良率。2.如申请专利范围第1 项所述之低通滤波光学晶片制造方法,其中承具盘 所载之晶片,可为由数个单片黏合成之复数层晶片 。3.如申请专利范围第1项所述之低通滤波光学晶 片制造方法,其中执行前述制程第2项时,其最佳之 点胶位系点注于晶片中心线,偏位约1mm上。4.如申 请专利范围第1项所述之低通滤波光学晶片制造方 法,其中吸取晶片下盖黏合时,系呈一倾斜角度,又 该角度以靠近点位偏斜在10~15度为最佳。5.如申请 专利范围第3项所述之低通滤波光学晶片制造方法 ,其中该制程单次执行第1至第3时,可以矩阵点、线 及面之中任何之一种来进行者。6.如申请专利范 围第1项所述之低通滤波光学晶片制造方法,其中 该制程第1和第2动作可为同步或非同步。7.如申请 专利范围第1项所述之低通滤波光学晶片制造方法 ,其中该制程承具盘组可大于三个以上,每一承具 盘并以颜色区分,执行时以前置承具盘之晶片吸贴 到后一承具盘上晶片黏合,依序进位完成。图式简 单说明: 第1图.为实施本发明之器具示意图。 第2图.为本发明承具盘之平面图。 第2-1图.为承具盘格位的局部放大图。 第3图.为本发明之流程图。 第4图.本发明晶片黏合之动作示意图。 第5-1图.系本发明晶片最佳吸汲位置示意图。 第5-2图.系本发明最佳点胶位置示意图。 第5-3图.系本发明晶片最佳贴合示意图。 第6图.系本发明一次吸贴两片之动作示意图。 第7图.系本发明一次吸贴三片之动作示意图。 第8图.系本发明机器生产前之测试流程图。 第9图.系本发明机器之生产流程图。
地址 苗栗县竹南镇竹南工业区和诚街二十二号
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