发明名称 电浆处理装置及电浆处理系统以及这些电浆处理装置及电浆处理系统的性能确认系统
摘要 【课题】进行电浆处理的反应室全体并末考虑电的高频特性。【解决手段】具备:用以激发电浆的电极之电浆反应室CN、连接于此电极的4、8的高频电源1、用以获得电浆反应室CN与高频电源1的阻抗匹配的匹配电路2,自其输出端PR切离匹配电路2A,以供电板3测定的电浆反应室CN的第一串联共振频率fo的3倍,系被设定于比自高频电源1供给电浆反应室CN的功率频率fe还大的值的范围而成。
申请公布号 TW511158 申请公布日期 2002.11.21
申请号 TW090116775 申请日期 2001.07.09
申请人 阿尔普士电气股份有限公司;大见忠弘 发明人 仲野阳;大见忠弘
分类号 H01L21/203;H01L21/205 主分类号 H01L21/203
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种电浆处理装置,其特征包含: 电浆处理室,具有用以激发电浆的电极; 高频电源,用以供给高频功率到该电极;以及 匹配电路,具有输入端与输出端,藉由该输入端连 接该高频电源,并且连接于该电极的高频功率配电 体连接于该输出端,获得该电浆处理室与该高频电 源的阻抗匹配, 其中在供给该高频功率时,在连接于匹配电路的输 出端之该高频功率配电体的端部测定的该电浆处 理室的第一串联共振频率fo的3倍,系被设定于比该 高频功率的功率频率fe还大的値的范围而成。2.如 申请专利范围第1项所述之电浆处理装置,其中该 第一串联共振频率fo的1.3倍系被设定于比该功率 频率fe还大的値的范围而成。3.如申请专利范围第 2项所述之电浆处理装置,其中该第一串联共振频 率fo系被设定于比该功率频率fe的3倍还大的値的 范围而成。4.如申请专利范围第3项所述之电浆处 理装置,其中被该电极以及协同该电极产生电浆的 对向电极之电容规定的串联共振频率fo'系被设定 于比该功率频率fe的3倍还大的値的范围而成。5. 如申请专利范围第4项所述之电浆处理装置,其中 用以激发该电浆的电极与该对向电极被制作成平 行平板型,令该电极与该对向电极之间的距离为d, 在此电极间的距离方向中,令各个电极与发光时的 电浆的距离和为时,该串联共振频率fo'与该功率 频率fe系满足 【数1】 fo'>√d/.fe 的关系。6.如申请专利范围第1项所述之电浆处理 装置,其中在该高频功率配电体端部附近配设测定 该电浆处理室的共振频率之共振频率测定用端子 。7.如申请专利范围第6项所述之电浆处理装置,其 中在该高频功率配电体端部与该共振频率测定用 端子之间,配设当激发电浆时,切断该配电体端部 与该测定用端子的电连接,并且确保该配电体端部 与该匹配电路的输出端的电连接,且当测定该电浆 处理室的共振频率时,确保该配电体端部与该测定 用端子的电连接,并且切断该配电体与该匹配电路 的输出端的电连接之切换开关。8.如申请专利范 围第6项所述之电浆处理装置,其中在该共振频率 测定用端子安装拆卸自如地连接共振频率测定器 。9.如申请专利范围第8项所述之电浆处理装置,其 中藉由该开关切断该高频配电体端部与该共振频 率测定用端子的电连接,并且在确保该配电体端部 与该匹配电路的输出端的电连接的情形中的该匹 配电路的输出端位置所测定的共振频率特性,与藉 由该开关确保该配电体端部与该测定用端子的电 连接,并且在切断该配电体与该匹配电路的输出端 的电连接的情形中的该共振频率测定用端子所测 定的共振频率特性,系被设定成相等而成。10.一种 电浆处理装置的性能确认系统,其特征包含: 购入订购者侧资讯终端,经由公用线路要求显示购 入订购者向贩卖维修者订购的如申请专利范围第1 项所述之电浆处理装置的动作性能状况之性能状 况资讯的阅览; 贩卖维修者侧资讯终端,贩卖维修者向上载入性能 状况资讯;以及 性能状况资讯提供手段,响应该购入订购者侧资讯 终端的要求,自贩卖维修者侧资讯终端提供被向上 载入的该性能状况资讯给购入订购者侧资讯终端 。11.如申请专利范围第10项所述之电浆处理装置 的性能确认系统,其中该性能状况资讯包含该第一 串联共振频率fo。12.如申请专利范围第11项所述之 电浆处理装置的性能确认系统,其中该性能状况资 讯系以目录或规格书而输出。13.一种电浆处理装 置,系具备复数个包含: 电浆处理室,具有用以激发电浆的电极; 高频电源,用以供给高频功率到该电极;以及 匹配电路,具有输入端与输出端,藉由该输入端连 接该高频电源,并且将连接于该电极的高频功率配 电体连接于该输出端子,获得该电浆处理室与该高 频电源的阻抗匹配, 之电浆处理室单元,其特征为: 在该各个电浆处理室单元中,当供给该高频功率时 ,在被设于连接于匹配电路的输出端子的该高频功 率配电体的端部之测定位置所测定的该复数个电 浆处理室的每一个高频特性A之中,令其最大値Amax 与最小値Amin的偏差为 (Amax-Amin)/(Amax+Amin) 此値被设定于预定范围的値而成。14.一种电浆处 理装置,系具备复数个包含: 电浆处理室,具有用以激发电浆的电极; 高频电源,用以供给高频功率到该电极;以及 匹配电路,具有输入端子与输出端子,藉由将连接 于该电极的高频功率配电体连接于该输出端子,并 且中介高频功率供电体连接该高频电源于该输入 端子,获得该电浆处理室与该高频电源的阻抗匹配 , 之电浆处理室单元,其特征为: 在该各个电浆处理室单元中,当供给该高频功率时 ,在被设于连接于该高频电源的该高频功率供电体 的该高频电源侧端部之测定位置所测定的该复数 个电浆处理室的每一个高频特性A之中,令其最大 値Amax与最小値Amin的偏差为 (Amax-Amin)/(Amax+Amin) 此値被设定于预定范围的値而成。15.一种电浆处 理装置,系具备复数个包含: 电浆处理室,具有用以激发电浆的电极; 高频电源,用以供给高频功率到该电极;以及 匹配电路,具有输入端子与输出端子,藉由将连接 于该电极的高频功率配电体连接于该输出端子,并 且中介高频功率供电体连接该高频电源于该输入 端子,获得该电浆处理室与该高频电源的阻抗匹配 , 之电浆处理室单元,其特征为: 在该各个电浆处理室中,当供给该高频功率时,在 被设于连接于该高频功率供电体的该输入端子之 测定位置所测定的该复数个电浆处理室的每一个 高频特性A之中,令其最大値Amax与最小値Amin的偏差 为 (Amax-Amin)/(Amax+Amin) 此値被设定于预定范围的値而成。16.如申请专利 范围第13项所述之电浆处理装置,其中该预定的値 被设定于比0.1还小的范围的値而成。17.如申请专 利范围第14项所述之电浆处理装置,其中该预定的 値被设定于比0.1还小的范围的値而成。18.如申请 专利范围第15项所述之电浆处理装置,其中该预定 的値被设定于比0.1还小的范围的値而成。19.如申 请专利范围第13项所述之电浆处理装置,其中该高 频特性A为共振频率f、该高频功率的频率中的阻 抗Z、该高频功率的频率中的电阻R或该高频功率 的频率中的电抗X的任一个。20.如申请专利范围第 14项所述之电浆处理装置,其中该高频特性A为共振 频率f、该高频功率的频率中的阻抗Z、该高频功 率的频率中的电阻R或该高频功率的频率中的电抗 X的任一个。21.如申请专利范围第15项所述之电浆 处理装置,其中该高频特性A为共振频率f、该高频 功率的频率中的阻抗Z、该高频功率的频率中的电 阻R或该高频功率的频率中的电抗X的任一个。22. 如申请专利范围第13项所述之电浆处理装置,其中 该高频特性A为第一串联共振频率fo。23.如申请专 利范围第14项所述之电浆处理装置,其中该高频特 性A为第一串联共振频率fo。24.如申请专利范围第 15项所述之电浆处理装置,其中该高频特性A为第一 串联共振频率fo。25.如申请专利范围第13项所述之 电浆处理装置,其中对应该每一个电浆处理室的第 一串联共振频率fo的3倍系被设定于比该高频功率 的频率fe还大的范围的値而成。26.如申请专利范 围第13项所述之电浆处理装置,其中在对应该每一 个电浆处理室的该测定位置,分别配设测定该电浆 处理室的高频特性A的测定用端子。27.如申请专利 范围第14项所述之电浆处理装置,其中在对应该每 一个电浆处理室的该测定位置,分别配设测定该电 浆处理室的高频特性A的测定用端子。28.如申请专 利范围第15项所述之电浆处理装置,其中在对应该 每一个电浆处理室的该测定位置,分别配设测定该 电浆处理室的高频特性A的测定用端子。29.如申请 专利范围第26项所述之电浆处理装置,其中在该测 定位置附近,配设当激发电浆时,切断该测定位置 与该测定用端子的电连接,并且确保该配电体侧与 该高频电源侧的电连接,且当测定该电浆处理室的 频率特性A时,确保该测定位置与该测定用端子的 电连接,并且切断该高频电源侧与该测定位置的电 连接之切换开关。30.如申请专利范围第27项所述 之电浆处理装置,其中在该测定位置附近,配设当 激发电浆时,切断该测定位置与该测定用端子的电 连接,并且确保该配电体侧与该高频电源侧的电连 接,且当测定该电浆处理室的频率特性A时,确保该 测定位置与该测定用端子的电连接,并且切断该高 频电源侧与该测定位置的电连接之切换开关。31. 如申请专利范围第28项所述之电浆处理装置,其中 在该测定位置附近,配设当激发电浆时,切断该测 定位置与该测定用端子的电连接,并且确保该配电 体侧与该高频电源侧的电连接,且当测定该电浆处 理室的频率特性A时,确保该测定位置与该测定用 端子的电连接,并且切断该高频电源侧与该测定位 置的电连接之切换开关。32.一种电浆处理系统,其 特征为配设复数个具备: 电浆处理室,具有用以激发电浆的电极; 高频电源,用以供给高频功率到该电极;以及 匹配电路,具有输入端子与输出端子,藉由该输入 端子连接该高频电源,并且将连接于该电极的高频 功率配电体连接于该高频电源,获得该电浆处理室 与该高频电源的阻抗匹配, 之电浆处理装置,其中 在各电浆处理室中,当供给该高频功率时,在被设 于连接于匹配电路的输出端子的该高频功率配电 体的端部之测定位置所测定的该复数个电浆处理 室的每一个高频特性A之中,令其最大値Amax与最小 値Amin的偏差为 (Amax-Amin)/(Amax+Amin) 此値被设定于预定范围的値而成。33.一种电浆处 理系统,其特征为配设复数个具备: 电浆处理室,具有用以激发电浆的电极; 高频电源,用以供给高频功率到该电极;以及 匹配电路,具有输入端子与输出端子,藉由将连接 于该电极的高频功率配电体连接于该输出端子,并 且中介高频功率供电体连接该高频电源于该输入 端子,获得该电浆处理室与该高频电源的阻抗匹配 , 之电浆处理装置,其中 在各电浆处理室中,当供给该高频功率时,在被设 于连接于该高频电源的该高频功率供电体的该高 频电源侧端部之测定位置所测定的该复数个电浆 处理室的每一个高频特性A之中,令其最大値Amax与 最小値Amin的偏差为 (Amax-Amin)/(Amax+Amin) 此値被设定于预定范围的値而成。34.一种电浆处 理系统,其特征为配设复数个具备: 电浆处理室,具有用以激发电浆的电极; 高频电源,用以供给高频功率到该电极;以及 匹配电路,具有输入端子与输出端子,藉由将连接 于该电极的高频功率配电体连接于该输出端子,并 且中介高频功率供电体连接该高频电源于该输入 端子,获得该电浆处理室与该高频电源的阻抗匹配 , 之电浆处理装置,其中 在各电浆处理室中,当供给该高频功率时,在被设 于连接于该高频功率供电体的该输入端子之测定 位置所测定的该复数个电浆处理室的每一个高频 特性A之中,令其最大値Amax与最小値Amin的偏差为 (Amax-Amin)/(Amax+Amin) 此値被设定于预定范围的値而成。35.如申请专利 范围第32项所述之电浆处理系统,其中该预定的値 被设定于比0.1还小的范围的値而成。36.如申请专 利范围第33项所述之电浆处理系统,其中该预定的 値被设定于比0.1还小的范围的値而成。37.如申请 专利范围第34项所述之电浆处理系统,其中该预定 的値被设定于比0.1还小的范围的値而成。38.如申 请专利范围第32项所述之电浆处理系统,其中该高 频特性A为共振频率f、该高频功率的频率中的阻 抗Z、该高频功率的频率中的电阻R或该高频功率 的频率中的电抗X的任一个。39.如申请专利范围第 33项所述之电浆处理系统,其中该高频特性A为共振 频率f、该高频功率的频率中的阻抗Z、该高频功 率的频率中的电阻R或该高频功率的频率中的电抗 X的任一个。40.如申请专利范围第34项所述之电浆 处理系统,其中该高频特性A为共振频率f、该高频 功率的频率中的阻抗Z、该高频功率的频率中的电 阻R或该高频功率的频率中的电抗X的任一个。41. 如申请专利范围第32项所述之电浆处理系统,其中 该高频特性A为第一串联共振频率fo。42.如申请专 利范围第33项所述之电浆处理系统,其中该高频特 性A为第一串联共振频率fo。43.如申请专利范围第 34项所述之电浆处理系统,其中该高频特性A为第一 串联共振频率fo。44.如申请专利范围第32项所述之 电浆处理系统,其中对应该每一个电浆处理室的第 一串联共振频率fo的3倍系被设定于比该高频功率 的频率fe还大的范围的値而成。45.如申请专利范 围第32项所述之电浆处理系统,其中在对应该每一 个电浆处理室的该测定位置,分别配设测定该电浆 处理室的高频特性A的测定用端子。46.如申请专利 范围第33项所述之电浆处理系统,其中在对应该每 一个电浆处理室的该测定位置,分别配设测定该电 浆处理室的高频特性A的测定用端子。47.如申请专 利范围第34项所述之电浆处理系统,其中在对应该 每一个电浆处理室的该测定位置,分别配设测定该 电浆处理室的高频特性A的测定用端子。48.如申请 专利范围第45项所述之电浆处理系统,其中在该测 定位置附近,配设当激发电浆时,切断该测定位置 与该测定用端子的电连接,并且确保该配电体侧与 该高频电源侧的电连接,且当测定该电浆处理室的 频率特性A时,确保该测定位置与该测定用端子的 电连接,并且切断该高频电源侧与该测定位置的电 连接之切换开关。49.如申请专利范围第46项所述 之电浆处理系统,其中在该测定位置附近,配设当 激发电浆时,切断该测定位置与该测定用端子的电 连接,并且确保该配电体侧与该高频电源侧的电连 接,且当测定该电浆处理室的频率特性A时,确保该 测定位置与该测定用端子的电连接,并且切断该高 频电源侧与该测定位置的电连接之切换开关。50. 如申请专利范围第47项所述之电浆处理系统,其中 在该测定位置附近,配设当激发电浆时,切断该测 定位置与该测定用端子的电连接,并且确保该配电 体侧与该高频电源侧的电连接,且当测定该电浆处 理室的频率特性A时,确保该测定位置与该测定用 端子的电连接,并且切断该高频电源侧与该测定位 置的电连接之切换开关。51.一种电浆处理装置的 性能确认系统,其特征包含: 购入订购者侧资讯终端,经由公用线路要求显示购 入订购者向贩卖维修者订购的如申请专利范围第 13项所述之电浆处理装置的动作性能状况之性能 状况资讯的阅览; 贩卖维修者侧资讯终端,贩卖维修者向上载入该性 能状况资讯;以及 性能状况资讯提供手段,响应该购入订购者侧资讯 终端的要求,自贩卖维修者侧资讯终端提供被向上 载入的性能状况资讯给购入订购者侧资讯终端。 52.一种电浆处理装置的性能确认系统,其特征包含 : 购入订购者侧资讯终端,经由公用线路要求显示购 入订购者向贩卖维修者订购的如申请专利范围第 14项所述之电浆处理装置的动作性能状况之性能 状况资讯的阅览; 贩卖维修者侧资讯终端,贩卖维修者向上载入该性 能状况资讯;以及 性能状况资讯提供手段,响应该购入订购者侧资讯 终端的要求,自贩卖维修者侧资讯终端提供被向上 载入的性能状况资讯给购入订购者侧资讯终端。 53.一种电浆处理装置的性能确认系统,其特征包含 : 购入订购者侧资讯终端,经由公用线路要求显示购 入订购者向贩卖维修者订购的如申请专利范围第 15项所述之电浆处理装置的动作性能状况之性能 状况资讯的阅览; 贩卖维修者侧资讯终端,贩卖维修者向上载入该性 能状况资讯;以及 性能状况资讯提供手段,响应该购入订购者侧资讯 终端的要求,自贩卖维修者侧资讯终端提供被向上 载入的性能状况资讯给购入订购者侧资讯终端。 54.如申请专利范围第51项所述之电浆处理装置的 性能确认系统,其中该性能状况资讯包含该高频特 性A的偏差値。55.如申请专利范围第52项所述之电 浆处理装置的性能确认系统,其中该性能状况资讯 包含该高频特性A的偏差値。56.如申请专利范围第 53项所述之电浆处理装置的性能确认系统,其中该 性能状况资讯包含该高频特性A的偏差値。57.一种 电浆处理系统的性能确认系统,其特征包含: 购入订购者侧资讯终端,经由公用线路要求显示购 入订购者向贩卖维修者订购的如申请专利范围第 32项所述之电浆处理系统的动作性能状况之性能 状况资讯的阅览; 贩卖维修者侧资讯终端,贩卖维修者向上载入该性 能状况资讯;以及 性能状况资讯提供手段,响应该购入订购者侧资讯 终端的要求,自贩卖维修者侧资讯终端提供被向上 载入的性能状况资讯给购入订购者侧资讯终端。 58.一种电浆处理系统的性能确认系统,其特征包含 : 购入订购者侧资讯终端,经由公用线路要求显示购 入订购者向贩卖维修者订购的如申请专利范围第 33项所述之电浆处理系统的动作性能状况之性能 状况资讯的阅览; 贩卖维修者侧资讯终端,贩卖维修者向上载入该性 能状况资讯;以及 性能状况资讯提供手段,响应该购入订购者侧资讯 终端的要求,自贩卖维修者侧资讯终端提供被向上 载入的性能状况资讯给购入订购者侧资讯终端。 59.一种电浆处理系统的性能确认系统,其特征包含 : 购入订购者侧资讯终端,经由公用线路要求显示购 入订购者向贩卖维修者订购的如申请专利范围第 34项所述之电浆处理系统的动作性能状况之性能 状况资讯的阅览; 贩卖维修者侧资讯终端,贩卖维修者向上载入该性 能状况资讯;以及 性能状况资讯提供手段,响应该购入订购者侧资讯 终端的要求,自贩卖维修者侧资讯终端提供被向上 载入的性能状况资讯给购入订购者侧资讯终端。 60.如申请专利范围第57项所述之电浆处理系统的 性能确认系统,其中该性能状况资讯包含该高频特 性A的偏差値。61.如申请专利范围第58项所述之电 浆处理系统的性能确认系统,其中该性能状况资讯 包含该高频特性A的偏差値。62.如申请专利范围第 59项所述之电浆处理系统的性能确认系统,其中该 性能状况资讯包含该高频特性A的偏差値。图式简 单说明: 图1系显示与本发明有关的电浆处理装置的第一实 施形态的概略构成图。 图2系显示图1中的电浆处理装置的匹配电路的模 式图。 图3系用以说明与本发明有关的电浆处理装置的第 一实施形态中的电浆处理装置的阻抗特性的模式 图。 图4系显示图3中的电浆处理装置的等价电路的电 路图。 图5系显示用以说明第一串联共振频率fo的阻抗Z与 相位的频率依存特性图。 图6系显示与本发明有关的电浆处理装置的第一实 施形态中的第一串联共振频率fo以及阻抗Z与相位 的频率依存特性图。 图7系显示与本发明有关的电浆处理装置的第二实 施形态的概略构成图。 图8系用以说明与本发明有关的电浆处理装置的第 二实施形态中的电浆处理装置的阻抗特性的模式 图。 图9系显示图8中的电浆处理装置的等价电路的电 路图。 图10系显示与本发明有关的电浆处理装置的第二 实施形态中的第一串联共振频率fo以及阻抗Z与相 位的频率依存特性图。 图11系显示与本发明有关的电浆处理装置的第三 实施形态的概略构成图。 图12系显示图11中的电浆处理装置的等价电路的电 路图。 图13系显示与本发明有关的电浆处理装置的第三 实施形态中的第一串联共振频率fo以及阻抗Z与相 位的频率依存特性图。 图14系显示电浆发光状态中的电极间的状态之模 式图。 图15系说明与本发明有关的电浆处理装置的实施 例中的等价电路的电路图。 图16系显示阻抗测定器的探针之斜视图。 图17系显示图16的阻抗测定器的探针之连接状态的 模式图。 图18系显示习知的电浆处理装置的一例之模式图 。 图19系显示习知的电浆处理装置的其他例之模式 图。 图20系显示本发明的电浆处理装置的性能确认系 统的系统构成图。 图21系显示与本发明的电浆处理装置的性能确认 系统有关的伺服器S的建筑状况资讯的提供处理之 流程图。 图22系显示与本发明的电浆处理装置的性能确认 系统有关的主页CP的构成之俯视图。 图23系显示与本发明的电浆处理装置的性能确认 系统有关的次页CP1的构成之俯视图。 图24系显示与本发明的电浆处理装置的性能确认 系统有关的主页CP2的构成之俯视图。 图25系显示与本发明的电浆处理装置的性能确认 系统有关的次页CP3的构成之俯视图。 图26系显示与本发明有关的电浆处理装置的第四 实施形态的概略构成图。 图27系显示图26中的雷射回火室的纵剖面图。 图28系显示图26中的热处理室的纵剖面图。 图29系显示与本发明有关的电浆处理装置的第五 实施形态的概略构成图。 图30系显示图11中的电浆反应室的等价电路的电路 图。 图31系显示与本发明有关的电浆处理系统的第六 实施形态的概略构成图。 图32系显示与本发明有关的电浆处理装置的其他 实施形态的概略构成图。 图33系显示与本发明有关的电浆处理装置的其他 实施形态的概略构成图。 图34系显示与本发明有关的电浆处理装置的其他 实施形态的概略构成图。 图35系显示与本发明有关的电浆处理系统的第七 实施形态中的电浆处理单元(电浆反应室)的概略 构成之剖面图。 图36系用以说明图35中的电浆反应室的阻抗特性的 模式图。 图37系显示图36的电浆反应室的阻抗特性测定用的 等价电路之电路图。 图38系显示与本发明的电浆处理装置的性能确认 系统有关的次页CP3的构成之俯视图。 图39系显示与本发明的电浆处理装置的性能确认 系统有关的次页CP4的构成之俯视图。
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