| 主权项 |
1.一种减小胶状悬浮液内颗粒尺寸及增加颗粒均 匀度之方法,包含以下步骤: 分裂胶状悬浮液内之凝结物; 限制胶状悬浮液之颗粒移动,以防止撞击胶状悬浮 液之其他颗粒;及 过滤胶状悬浮液。2.如申请专利范围第1项之方法, 进一步包括以下步骤: 产生一压力差通过一过滤元件,使得胶状悬浮液流 过该过滤元件;及 振动该过滤元件以分裂胶状悬浮液之颗粒。3.如 申请专利范围第2项之方法,进一步包括改变振动 频率以将振动能量散布于该过滤元件之步骤。4. 如申请专利范围第2项之方法,进一步包括以超音 波频率或以上者振动该过滤元件之步骤。5.如申 请专利范围第4项之方法,其中振动该过滤元件以 分裂胶状悬浮液颗粒之步骤系进一步包括在未发 生涡凹处操作之步骤。6.一种制造积体电路之方 法,包括以下步骤: 提供一半导体晶圆至一化学机械式抛光工具; 提供一胶状悬浮液至该化学机械式抛光工具; 过滤上述之胶状悬浮液,包括将胶状悬浮液中之大 粒子再处理成小粒子,使其通过过滤元件;及 以一过滤之胶状悬浮液自该半导体晶圆去除材料 。7.如申请专利范围第6项之方法,其中过滤该胶状 悬浮液之步骤包括在一使用点处及在真时过滤该 胶状悬浮液。8.一种具有一输入及一输出之过滤 装置,过滤装置包含: 一腔室,具有一第一体积及一第二体积,供分别贮 存未过滤材料及已过滤材料,其中过滤装置之输入 系联结于该第一体积,及其中过滤装置之输出系联 结于该第二体积; 一振动装置,系联结于该腔室,而以超音波频率或 以上者产生振动;及 一过滤元件,系将该腔室之该第一体积分隔于该腔 室之该第二体积,该过滤元件系反应于该振动装置 。9.如申请专利范围第8项之过滤装置,其中该过滤 元件系一线网式过滤装置。10.如申请专利范围第8 项之过滤装置,进一步包括一磁性搅拌杆,系设于 该腔室之该第一体积内。图式简单说明: 图1系本发明之一过滤装置截面图; 图2系用于含有一胶状悬浮液过滤装置之半导体晶 圆制造中之一化学机械式磨平工具顶视图; 图3系本发明一实施例之未过滤SC112胶状悬浮液与 已过滤SC112胶状悬浮液之图表;及 图4系本发明一实施例之未过滤MSW 1500胶状悬浮液 与已过滤MSW 1500胶状悬浮液之图表。 |
